[发明专利]玻璃基板刻划方法有效
| 申请号： | 201210034230.0 | 申请日： | 2012-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN102643019A | 公开（公告）日： | 2012-08-22 |
| 发明（设计）人： | 苏宇航;山本幸司 | 申请（专利权）人： | 三星钻石工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C03B33/09 | 分类号： | C03B33/09 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 玻璃 刻划 方法 | ||
1.一种对强化玻璃进行刻划的玻璃基板刻划方法，该强化玻璃的表面具备带有压缩应力的强化层，其中，所述刻划方法包括：
第1步骤，在所述强化玻璃的表面，去除强化层而形成初始龟裂；以及
第2步骤，在对所述初始龟裂照射激光进行加热的同时，对被加热的区域进行冷却，使龟裂沿着刻划预定线发展。
2.根据权利要求1所述的玻璃基板刻划方法，其中，
在所述第1步骤中，初始龟裂的深度为强化玻璃的强化层厚度的1.14倍以上且在1.67倍以下。
3.根据权利要求2所述的玻璃基板刻划方法，其中，
在所述第1步骤中，初始龟裂的深度不超过强化玻璃的整个厚度的5.4％。
4.一种对强化玻璃进行刻划的玻璃基板刻划方法，该强化玻璃的表面具备带有压缩应力的强化层，其中，所述刻划方法包括：
第1步骤，在刻划预定线的扫描开始侧的玻璃基板端面内侧的规定距离处的强化玻璃的表面，形成初始龟裂；以及
第2步骤，在除了所述扫描开始侧的端部区域以外，从所述初始龟裂沿着刻划预定线照射激光进行加热的同时，对被加热的区域进行冷却，使龟裂沿着刻划预定线发展。
5.根据权利要求4所述的玻璃基板刻划方法，其中，
在所述强化玻璃的表面，反射激光的反射膜形成于刻划预定线的扫描开始侧的端部区域，
所述第2步骤是对形成有所述反射膜的强化玻璃的表面执行处理。
6.根据权利要求4或5所述的玻璃基板刻划方法，其中，
在所述第2步骤中，在从刻划预定线的扫描结束侧的玻璃基板端面到内侧的规定距离处为止的端部区域，停止基于激光照射的加热及加热区域的冷却。
7.根据权利要求6所述的玻璃基板刻划方法，其中，
在所述强化玻璃的表面上，在刻划预定线的扫描开始侧及扫描结束侧的端部区域分别形成有反射激光的反射膜，
所述第2步骤是对形成有所述反射膜的强化玻璃的表面执行处理。
8.根据权利要求4或5所述的玻璃基板刻划方法，其中，
所述第1步骤中的初始龟裂的深度为强化玻璃的强化层厚度的1.14倍以上且在1.67倍以下。
9.根据权利要求8所述的玻璃基板刻划方法，其中，
在所述第1步骤中，初始龟裂的深度不超过强化玻璃的整个厚度的5.4％。
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