[发明专利]非对称读出放大器设计有效

专利信息
申请号: 201210033496.3 申请日: 2012-02-15
公开(公告)号: CN102646440A 公开(公告)日: 2012-08-22
发明(设计)人: 吴经纬;陈冠廷;李政宏 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G11C7/06 分类号: G11C7/06
代理公司: 北京德恒律师事务所 11306 代理人: 陆鑫;房岭梅
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 对称 读出 放大器 设计
【权利要求书】:

1.一种电路,包括:

第一反相器,包括第一PMOS晶体管和第一NMOS晶体管;

第二反相器,包括第二PMOS晶体管和第二NMOS晶体管;

第一节点,连接至所述第一PMOS晶体管的栅极和所述第一NMOS晶体管的栅极以及所述第二PMOS晶体管的漏极和所述第二NMOS晶体管的漏极;

第二节点,连接至所述第二PMOS晶体管的栅极和所述第二NMOS晶体管的栅极以及所述第一PMOS晶体管的漏极和所述第一NMOS晶体管的漏极;

第一电容器,具有第一电容,连接至所述第一节点;以及

第二电容器,具有第二电容,连接至所述第二节点,其中,所述第二电容大于所述第一电容。

2.根据权利要求1所述的电路,进一步包括:

电压源,被配置为向所述电压源的输出提供固定电压;

存储器阵列;

数据线,连接至所述存储器阵列的位线;

第一数据输入晶体管,包括连接至所述电压源的输出的第一源极/漏极区域和连接至所述第一节点的第二源极/漏极区域;以及

第二数据输入晶体管,包括连接至所述数据线的第一源极/漏极区域和连接至所述第二节点的第二源极/漏极区域。

3.根据权利要求2所述的电路,其中,所述固定电压是逻辑高电压,并且其中,所述第一电容器连接在所述第一节点和VSS节点之间,所述第二电容器连接在所述第二节点和所述VSS节点之间,或者

其中,所述固定电压是逻辑低电压,并且其中,所述第一电容器连接在所述第一节点和VDD节点之间,所述第二电容器连接在所述第二节点和所述VDD节点之间。

4.根据权利要求1所述的电路,其中,所述第二电容与所述第一电容的比率大于约1.5,或者

其中,所述第一电容器和所述第二电容器由作为电容器极板的金属线形成,所述金属线在包括所述电路的相应芯片的金属层中,或者

其中,所述第一电容器和所述第二电容器由MOS晶体管形成,所述MOS晶体管的源极区域连接至相应MOS晶体管的漏极区域。

5.一种电路,包括:

存储器阵列;

数据线,被配置为接收来自所述存储器阵列的位线的信号;

数据锁存器;

第一节点和第二节点,其中,所述第一节点和所述第二节点是所述数据锁存器的互补节点;

第一电容器,具有第一电容,连接至所述第一节点;

第二电容器,具有第二电容,连接至所述第二节点,其中,所述第二电容大于所述第一电容;

电压源,被配置为将固定电压提供给所述电压源的输出;

第一数据输入晶体管,包括连接至所述电压源的输出的第一源极/漏极区域和连接至所述第一节点的第二源极/漏极区域;以及

第二数据输入晶体管,包括连接至所述数据线的第一源极/漏极区域和连接至所述第二节点的第二源极/漏极区域。

6.根据权利要求5所述的电路,其中,所述数据锁存器包括第一反相器和第二反相器,所述第一节点连接至所述第二反相器中的晶体管的栅极,所述第二节点连接至所述第一反相器中的晶体管的栅极,或者

进一步包括:

第一预充电MOS晶体管,包括连接至所述第一节点的漏极和连接至电源节点的源极;

第二预充电MOS晶体管,包括连接至所述第二节点的漏极和连接至所述电源节点的源极,所述电源节点处于基本等于所述固定电压的电压;以及

第三预充电MOS晶体管,包括连接至所述第一节点的漏极和连接至所述第二节点的源极,或者

其中,所述固定电压是VDD电压,并且其中,所述第一电容器连接在所述第一节点和VSS节点之间,所述第二电容器连接在所述第二节点和所述VSS节点之间,或者

其中,所述固定电压是VSS电压,并且其中,所述第一电容器连接在所述第一节点和VDD节点之间,所述第二电容器连接在所述第二节点和所述VDD节点之间,或者

其中,所述第二电容与所述第一电容的比率大于约1.5,或者

其中,所述第一电容器和所述第二电容器由作为电容器极板的金属线形成,或者

其中,所述第一电容器和所述第二电容器由MOS晶体管形成,所述MOS晶体管的源极区域连接至相应MOS晶体管的漏极区域。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210033496.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top