[发明专利]光学元件及其制造方法、显示装置、信息输入装置、相片

权利要求书

1.一种具有防反射功能的光学元件，包括：

基体，具有表面；以及

多个结构体，在所述基体的所述表面上以等于或小于可见光的波长的细微节距排列，

其中，形成所述结构体的材料的弹性模量大于等于1MPa且小于等于1200MPa，

所述结构体的纵横比大于等于0.6且小于等于5，以及

形成有多个所述结构体的所述基体的所述表面的动摩擦系数等于或小于0.85。

2.根据权利要求1所述的光学元件，其中，所述结构体含有有机硅和聚氨酯。

3.根据权利要求1所述的光学元件，其中，所述结构体由含有有机硅丙烯酸酯和聚氨酯丙烯酸酯的能量射线固化树脂组合物的聚合物制成。

4.根据权利要求1所述的光学元件，形成所述基体的材料的弹性模量大于等于1MPa且小于等于3000MPa。

5.根据权利要求4所述的光学元件，其中，所述基体的厚度大于等于60μm。

6.根据权利要求1所述的光学元件，进一步包括多个所述结构体与所述基体之间的基底层，

其中，所述基底层的弹性模量大于等于1MPa且小于等于3000MPa。

7.根据权利要求6所述的光学元件，其中，所述基底层的厚度大于等于60μm。

8.根据权利要求1所述的光学元件，进一步包括多个所述结构体与所述基体之间的基底层，

其中，所述基底层和所述基体的弹性模量大于等于1MPa且小于等于3000MPa。

9.根据权利要求8所述的光学元件，其中，所述基底层和所述基体的总厚度大于等于60μm。

10.根据权利要求1所述的光学元件，其中，形成所述结构体的材料的伸长率等于或大于50％。

11.根据权利要求1所述的光学元件，其中，形成所述基体的材料的伸长率等于或大于20％。

12.根据权利要求1所述的光学元件，进一步包括形成在所述结构体上的表面处理层，

其中，所述表面处理层含有氟和硅中的至少一种，以及

形成有所述表面处理层的所述结构体的表面中的油酸的接触角等于或大于30度。

13.根据权利要求1所述的光学元件，

其中，多个所述结构体被排列为在所述基体的所述表面上构成多行轨迹并形成六方格图案、准六方格图案、四方格图案、或准四方格图案，以及

所述结构体具有长轴方向在所述轨迹的延伸方向上的椭圆锥形或椭圆锥台形。

14.根据权利要求1所述的光学元件，

其中，多个所述结构体被排列为在所述基体的所述表面上构成多行轨迹，以及

所述轨迹具有直线形或圆弧形。

15.根据权利要求14所述的光学元件，其中所述轨迹是曲折型的。

16.一种具有防反射功能的光学元件，包括：

多个结构体，以等于或小于可见光的波长的细微节距排列，

其中，相邻的所述结构体的下部彼此连接，

形成所述结构体的材料的弹性模量大于等于1MPa且小于等于1200MPa，

所述结构体的纵横比大于等于0.6且小于等于5，以及

以所述细微节距排列的多个所述结构体的表面的动摩擦系数等于或小于0.85。

17.一种显示装置，包括根据权利要求1至16中任一项所述的光学元件。

18.一种信息输入装置，包括根据权利要求1至16中任一项所述的光学元件。

19.一种相片，包括根据权利要求1至16中任一项所述的光学元件。