[发明专利]一种球墨铸铁液压件表面硬化氮化热处理工艺在审
申请号: | 201210023109.8 | 申请日: | 2012-02-02 |
公开(公告)号: | CN102719829A | 公开(公告)日: | 2012-10-10 |
发明(设计)人: | 沈怀海;陈全德;孟凡涛;杨大波;韩斌;高公如 | 申请(专利权)人: | 山东常林机械集团股份有限公司 |
主分类号: | C23F17/00 | 分类号: | C23F17/00;C23C8/26;C21D5/00 |
代理公司: | 济南日新专利代理事务所 37224 | 代理人: | 谢省法 |
地址: | 276715 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 球墨铸铁 液压 表面 硬化 氮化 热处理 工艺 | ||
技术领域
本发明涉及热处理技术领域,尤其是一种QT700球墨铸铁液压件表面硬化氮化热处理工艺。
背景技术
对于球墨铸铁表面硬化处理一般采用软氮化工艺(低温氮碳共渗),软氮化处理后的球墨铸铁液压件由于其渗层较薄,不能进行去除材料加工,使得较小的变形没法消除,不能达到高端液压件的高精度要求。以前的气体氮化处理由于设备的控温精度不高,氨分解率(氮势)控制不精确和各种气体(NH3、N2、CO2)的纯度不够高等原因,造成氮化表面硬度不高、渗层厚度不够、氮化球墨铸铁液压件的白亮层过厚和氮化球墨铸铁液压件发生龟裂剥离等现象。
发明内容
本发明目的旨在克服现有技术的不足,提供一种有效增加渗层的厚度,进一步增加表面硬度和耐磨性,从而延长球墨铸铁液压件的使用寿命的球墨铸铁液压件表面硬化氮化热处理工艺。
本发明的目的可通过如下技术措施来实现:
该处理工艺按如下步骤进行:
a.将准备进行热处理的球墨铸铁液压件进行清洗,除去表面油污;
b.将清洗干净的球墨铸铁液压件装入回火炉中,控制温度为350℃,保温45min,进行预氧化:
c.先将渗氮多用炉升温至570℃,保温2h后进行预渗处理,首先升温至700℃,控制NH3气流量为200L/min,保温60 min,再降温至570℃,保温60 min;
d.将c步骤经预氧化后的球墨铸铁液压件装入渗氮炉中,控制温度为500℃、NH3气流量为200L/min,保持3h;
e.将d步骤的渗氮炉调温至540℃,保温3.0h,其中在3h以内保温期间的NH3气流量为190-210L/min,在4-16h保温期间的NH3气流量为33-35L/min;
f. 扩散结束后球墨铸铁液压件在渗氮炉使用高速淬火油于120℃下冷却20-25min,滤油后出炉;
g.将f步骤出炉后的球墨铸铁液压件进行清洗,去除其表面的附着物,得产品。
该热处理工艺过程采用的设备有:
1、VCH-1000(真空碳氢熔剂清洗机):主要用于球墨铸铁液压件渗氮前的去污清洗和渗氮后洗掉冷却介质,其特点是在真空负压的环境下利用碳氢清洗剂通过预洗喷淋、真空清洗、循环喷淋、真空干燥四个阶段去除球墨铸铁液压件上的油污,球墨铸铁液压件清洁干燥,使球墨铸铁液压件在氮化时更容易吸附活性N原子。
2、BTF-1000(回火炉):主要用于对球墨铸铁液压件进行预氧化处理, 350℃保温45min,在球墨铸铁液压件表面形成一层氧化膜,增加N原子吸附的表面积。
3、BBN-1000-3R(渗氮多用炉):该设备是由置换室,冷却室和加热室组成。处理过程中由程序控制器精确控制氮化的时间和温度,温度误差精确控制在±0.1℃范围内,时间误差在±1min之内。该设备的气氛是由(N2、NH3、CO2)组成,由氢探头检测炉内氢原子含量,确定炉内当前氨分解率,气体流量电磁阀控制各气体进入炉内时的流量,氮势的可控精度达0.01%。
经过氮化热工艺处理后,测得球墨铸铁液压件的氮化层深度为0.3651mm,表面硬度值最高可达到810.25HV。根据设计要求,氮化后精加工的加工余量为70μm。由图可以看出在70μm深处的硬度为720HV,即精加工去除70μm的加工余量后,表面硬度仍可满足设计要求,同时可消除由于热处理而引起的尺寸变化,使球墨铸铁液压件具有高精度的尺寸,完全满足QT700球墨铸铁液压件表面硬度HV690-730,氮化层深度0.30±0.02mm的技术要求。
本发明在氮化处理方面采用了可控氮势的气体渗氮工艺,为了加快氮化速度同时保证硬度的要求,本发明采用了三段氮化的工艺:即低温—高温—高温(低氮势)。该工艺过程分三个阶段,第一阶段采用了低温(500±0.1℃ 3h)低氮势,此阶段主要目的使球墨铸铁液压件的表面与芯部温度均衡一致,第二阶段采用高温(540±0.1℃ 3h)高氮势,其目的是建立高的活性N原子浓度,使球墨铸铁液压件表面迅速地吸收N原子,为活性N原子向内部扩散提供浓度梯度,并使球墨铸铁液压件表面形成弥散度大、硬度高的氮化物,有利于提高硬度,第三阶段采用高温(540±0.1℃ 12h)低氮势,使活性N原子浓度梯度平缓下降,调整表面的氮含量。
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