[发明专利]微细构造体及其制造方法

说明书

技术领域

本发明为关于微细构造体及其制造方法。

背景技术

近年来，作为纳米规模的细微加工技术，通过加印法方式得到的微细构造体及其制造方法已被人们所知晓。在此，所说的加印法方式为，使用其表面具有微细的凸凹图案的模型，使被加工物与模型的凸凹图案接触，在该接触的状态下固化被加工物，然后，使该被加工物从模型脱模，形成该模型的凸凹图案已被转印了的微细构造体的技术。(例如专利文献1)。

作为通过如这样的加印法方式的微构造体的制造方法，将模型的凸凹图案转印至被加工物时使用热的热方式(以下，将之称为热加印法方式)和使用光(UV)的光方式(以下，将之称为光加印法方式)的两种方式已被人们所知晓。在热加印法方式中，作为被加工物，使用热可塑性树脂，使模型的凸凹图案压上加热熔化的热可塑性树脂而形成图案形成层。通过冷却该状态，固化热可塑性树脂的图案形成层，得以成形模型的凸凹图案已被转印的微细构造体。

另一方面，在光加印法方式中，使用将凸凹图案附在石英基板表面的透明的模型，同时，作为被加工物，使用光固化树脂，使低粘度的光固化树脂在模型中变形，形成图案形成层，此后通过对该状态的光固化性树脂进行紫外线照射，使光固化树脂的图案形成层固化，从而得以制成模型的凸凹图案已被转印了的微细构造体。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2000-194142号公报

可是，通过这样的热加印法方式和光加印法方式的微细构造体的制造方法，虽然能够通过加热冷却和光照射固化图案形成层，转印模型的凸凹图案。但是，近年来，也期待着通过以上方法以外的新方法转印模型的凸凹图案的加印法方式的出现。

特别是，在通过光加印法方式的微细构造体的制造方法中，将模型的凸凹图案转印至光固化树脂时，由于需把光透过模型照射至图案形成层，则必须使用可透光的石英玻璃和氟树脂等材质制造的模型。

发明内容

考虑到以上各点，本发明其目的是提供通过以往未有的新的方法固化图案形成层，从而得到转印了模型的凸凹图案的微细构造体及其制造方法。

本发明的目的可以由以下方案达成：

1.一种微细构造体，其特征在于：具有

转印部，其中，图案形成层在通过模型变形的状态下固化，转印上述模型的凸凹图案，

上述转印部以用电离放射线照射电离放射线固化物的方式被固化。

2.上述1所述的微细构造体，其特征在于，在上述转印部，包括有上述电离放射线固化物发生胶联反应、聚合反应或该两种反应而形成的胶联体或聚合体。

3.如上述1所述的微细构造体，其特征在于，上述电离放射线固化物包括：聚四氟乙烯，聚ε-己酸内酯、聚乳酸、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚碳硅烷、聚硅烷、聚甲基丙烯酸甲酯、环氧树脂或聚酰亚胺、上述化合物的改性物以及上述化合物的共聚合物中的任一种，或者它们的混合物。

4.如上述1-3中的任意一项所述的微细构造体，其特征在于，上述电离放射线是，电子射线、X线、伽马线、中子线及高能量离子中的任何一种或它们的混合放射线。

5.一种微细构造体的制造方法，其特征在于，具有

形成步骤，将含有电离放射线固化物的图案形成层形成于具有凸凹图案的模型的表面；

成形步骤，通过用电离放射线照射上述图案形成层并使该图案形成层固化，形成所述转印部，由此形成所述模型的凸凹图案被转印于该转印部的微细构造体。

6.如上述5所述的微细构造体的制造方法，其特征在于，上述成形阶段，通过照射上述电离放射线，于电离放射线固化物发生胶联反应、聚合反应或其两种的反应，固化上述图案形成层。

7.如上述5所述的微细构造体的制造方法，其特征在于，上述电离放射线固化物包括：聚四氟乙烯，聚ε-己酸内酯、聚乳酸、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚碳硅烷、聚硅烷、聚甲基丙烯酸甲酯、环氧树脂或聚酰亚胺、它们的改性体以及它们的共聚合体中的任一种，它们的混合物。

8.如上述5-7中的任意一项所述的微细构造体的制造方法，其特征在于，上述电离放射线是，电子线、X线、伽马线、中子线及高能量离子中的任何一种或它们的混合放射线。

发明的效果

通过本发明，可实现使用与热加印法方式和光加印法方式完全不同的电离放射线固化图案形成层的加印法方式。这样，可以提供通过以以往的方法以外的新方法固化图案形成层，从而得到转印了模型的凸凹图案的微细构造体及其制造方法。

附图说明