[发明专利]光学信息记录介质无效

专利信息
申请号: 201210018103.1 申请日: 2012-01-19
公开(公告)号: CN102629480A 公开(公告)日: 2012-08-08
发明(设计)人: 田畑浩;三木刚 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: G11B7/243 分类号: G11B7/243;G11B7/254
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 信息 记录 介质
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种光学信息记录介质。更具体地,本发明涉及具有两个以上信息信号层的光学信息记录介质。

背景技术

迄今,CD(光盘)和DVD(数字多功能光盘)等已经推动光学信息记录介质的市场。然而,近年来,随着通过高清电视和PC(个人计算机)处理的数据的快速增长,存在着对容量进一步增加的光学信息记录介质的需求。已经开发了用于诸如BD(蓝光光盘(注册商标))的蓝色激光的大容量存储光学信息记录介质,以满足这样的需求,并且新的大容量存储光学信息记录介质的市场仍在继续增长。

作为可记录的光学信息记录介质,存在以CD-RW(可重写光盘)和DVD±RW(数字多功能光盘±可重写)为代表的可重写的光学信息记录介质,以及以CD-R(可记录光盘)和DVD-R(可记录数字多功能光盘)为代表的一次写入光学信息记录介质。特别地,后者作为低成本介质已经对市场的扩展做出了很大的贡献。因此,对于同样用于蓝色激光的大容量光学信息记录介质,有必要降低一次写入光学信息记录介质的价格以便扩展市场。而且,通常说,光学信息记录介质的存储可靠性因其记录和再生原理而与硬盘驱动器(HDD)、闪速存储器等相比要高,因此,近年来,这样的介质作为诸如那些开始被用于存储重要信息的档案介质的需求越来越大。

作为用于一次写入光学信息记录介质的记录材料,存在无机材料和有机着色材料。在典型的一次写入光学信息记录介质中,已经将有机着色材料作为记录材料进行了初步研究。然而,在近几年的大容量光学信息记录介质中,无机材料作为记录材料已经被广泛地进行了研究。

例如,在日本未审查专利申请公开第2010-218636号中,提出了具有包含Pd和O的无机记录层的光学信息记录介质。此外,在日本未审查专利申请公开第2009-129526号中的类似的光学信息记录介质中,提出了一种光学信息记录介质,该光学信息记录介质在包含Pd和O的无机记录层的至少一个表面上设置有氧化铟和氧化锡的混合物(ITO)作为主要成分的保护层以实现存储可靠性和高的生产率。

发明内容

然而,通过采用在无机记录介质的至少一个表面上设置有氧化铟和氧化锡的混合物(ITO)作为主要成分的保护层的光学信息记录介质来获得良好的功率裕度中存在困难。

期望提供一种具有良好的功率裕度的光学信息记录介质。

根据本发明的第一实施方式,提供了一种光学信息记录介质,该光学信息记录介质包括:基板;两个以上信息信号层,设置在基板上;覆盖层,设置在信息信号层上,其中,所述两个以上信息信号层中的至少一层设置有包含氧化钯的无机记录层、设置在无机记录层的第一主表面上的第一保护层以及设置在无机记录层的第二主表面上的第二保护层,并且其中,第一保护层和第二保护层中的至少一层包含作为主要成分的氧化硅、氧化铟和氧化锆的混合氧化物。

根据本发明的第二实施方式,提供了一种光学信息记录介质记录层,该光学信息记录介质记录层包括:基板;两个以上信息信号层,设置在基板上;覆盖层,设置在信息信号层上,其中两个以上信息信号层中的至少一层设置有包含氧化钯的无机记录层、置在无机记录层的第一主表面上的第一保护层以及设置在无机记录层的第二主表面上的第二保护层,并且其中,第一保护层和第二保护层中的至少一层包含作为主要成分的氧化铟、氧化镓和氧化锌的复合氧化物。

在第一实施方式和第二实施方式中,覆盖层的厚度不受特别限制,覆盖层包括基板、片材、涂覆层等。作为优选的高密度光学信息记录介质,存在具有如下配置的一种光学信息记录介质,其中,使用高NA物镜,采用诸如片材或涂覆层的薄的光传输层作为覆盖层,并通过从光传输层一侧照射光来执行信息信号的记录和再生。在这种情况下,可以采用不透明的基板作为基板。根据光学信息记录介质的形式将用于记录和再生信息信号的光入射平面适当地设置成覆盖层侧和基板侧的至少一个表面。

在第一实施方式和第二实施方式中,无机记录层优选包含作为主要成分的氧化钨、氧化钯和氧化铜,并且更优选包含除这些氧化物之外的氧化锌。

在第一实施方式和第二实施方式中,基板侧或覆盖层侧的一个表面优选为光照射面,在该光照射面上照射用于记录或再生两个以上信息信号层上的信息信号的光。

在第一实施方式中,优选第一保护层和第二保护层中的在光照射面的相对侧上的层包含氧化硅、氧化铟和氧化锆的复合氧化物,并且优选第一保护层和第二保护层均包含作为主要成分的氧化硅、氧化铟和氧化锆的复合氧化物。

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