[发明专利]光学信息记录介质的制造方法及光学信息记录介质

权利要求书

1.一种光学信息记录介质的制造方法，包括：

形成具有第一主面和第二主面的基板；

在所述基板的所述第一主面上形成第一信息信号层；

在所述第一信息信号层上形成中间层；

在所述中间层上形成第二信息信号层；

从所述基板的所述第二主面侧照射光且在第一区域和第二区域中的所述第一区域上记录识别信息；以及

在记录所述识别信息前，在除记录所述识别信息的所述第一区域以外的所述第二区域中对所述第二主面形成阻挡层。

2.根据权利要求1所述的光学信息记录介质的制造方法，

其中，所述第一区域是圆环状区域，以及

所述第二区域是在所述第一区域的外周侧的圆环状区域。

3.根据权利要求2所述的光学信息记录介质的制造方法，

其中，所述第一区域是距离所述第二主面的中心21mm以上且22mm以下的区域。

4.根据权利要求3所述的光学信息记录介质的制造方法，

其中，所述第二区域的内周侧的开始位置在距所述第二主面的中心22mm处的外周侧。

5.根据权利要求4所述的光学信息记录介质的制造方法，

其中，所述第二区域的所述内周侧的开始位置在距所述第二主面的中心25mm处的内周侧。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的光学信息记录介质的制造方法，还包括：

在形成所述第二信息信号层之后且在记录所述识别信息前，形成一个或多个信息信号层。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的光学信息记录介质的制造方法，

其中，在形成所述基板之后且在形成所述第一信息信号层前，形成所述阻挡层。

8.根据权利要求6所述的光学信息记录介质的制造方法，

其中，在形成所述基板之后且在形成所述第一信息信号层前，形成所述阻挡层。

9.根据权利要求1至5中任一项所述的光学信息记录介质的制造方法，

其中，在形成所述第一信息信号层之后且在形成所述第二信息信号层前，形成所述阻挡层。

10.根据权利要求6所述的光学信息记录介质的制造方法，

其中，在形成所述第一信息信号层之后且在形成所述第二信息信号层前，形成所述阻挡层。

11.一种光学信息记录介质，包括：

基板，具有第一主面和第二主面；

一个或多个信息信号层，所述一个或多个信息信号层记录有识别信息并形成在所述基板的所述第一主面上；以及

阻挡层，所述阻挡层形成在所述第二主面上，

其中，在除记录所述识别信息的第一区域以外的第二区域中形成所述阻挡层。

12.根据权利要求11所述的光学信息记录介质，

其中，所述第一区域是圆环状区域，以及

所述第二区域是在所述第一区域的外周侧的圆环状区域。

13.根据权利要求12所述的光学信息记录介质，

其中，所述第一区域是距离所述第二主面的中心21mm以上且22mm以下的区域。

14.根据权利要求13所述的光学信息记录介质，

其中，所述第二区域的内周侧的开始位置在距所述第二主面的中心22mm处的外周侧。

15.根据权利要求14所述的光学信息记录介质，

其中，所述第二区域的所述内周侧的开始位置在距所述第二主面的中心25mm处的内周侧。

16.根据权利要求11所述的光学信息记录介质，

其中，各个所述信息信号层设置有无机记录层、被设置为与所述无机记录层的一个主面相邻的第一保护层以及被设置为与所述无机记录层的另一个主面相邻的第二保护层。