[发明专利]一种新型光罩基准标记版图无效

专利信息
申请号: 201210014986.9 申请日: 2012-01-18
公开(公告)号: CN102540699A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 何伟明;吴林 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G03F1/42 分类号: G03F1/42;G03F9/00
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 王敏杰
地址: 201210 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 新型 基准 标记 版图
【权利要求书】:

1.一种新型光罩基准标记版图,其特征在于,包括主图形区,和环绕包围所述主图形区的遮光带;还包括位于主图形区和遮光带外部的光罩方位识别标记。

2.根据权利要求1所述的新型光罩基准标记版图,其特征在于,所述光罩方位识别标记选自图案、文字、字母、或其任意组合。

3.根据权利要求1所述的新型光罩基准标记版图,其特征在于,所述光罩方位识别标记位于操作时靠近机台方向、远离操作人员的一端。

4.根据权利要求1所述的新型遮光罩基准标记版图,其特征在于,还包括条形码区,并且条形码区在主图形区和遮光带的外部。

5.根据权利要求4所述的新型遮光罩基准标记版图,其特征在于,所述条形码区位于所述版图的一侧。

6.根据权利要求1所述的新型遮光罩基准标记版图,其特征在于,还包括光刻对准标记。

7.根据权利要求6所述的新型遮光罩基准标记版图,其特征在于,所述光刻对准标记环绕遮光带外部排布。

8.根据权利要求1所述的新型遮光罩基准标记版图,其特征在于,所述遮光带宽度为1.5mm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210014986.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top