[发明专利]处理设备有效

专利信息
申请号: 201210008764.6 申请日: 2012-01-12
公开(公告)号: CN102581481A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: 约翰内斯·施密德;A·佩特莱克 申请(专利权)人: 豪迈木材加工系统公司
主分类号: B23K26/02 分类号: B23K26/02
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 党晓林;王小东
地址: 德国绍*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 处理 设备
【说明书】:

技术领域

发明涉及根据权利要求1的前序部分的处理设备。一般的处理设备例如被用于处理例如家具和结构构件工业中的工件,所述工件至少某些部分由木材、木质材料、塑料、金属(例如,金属配件)或它们的组合构成。

背景技术

辐射(尤其是激光辐射)日益用于各种生产过程中,例如切削、接合或雕刻。在该情况下,辐射所产生的热量被特别地用于执行相应的作业步骤。

然而,将光束引导装置整合在已知的处理机中且因此通过另一类型的处理来扩大这种处理机的使用范围始终是成问题的。关于将光束引导装置整合在已知的处理机中的考虑常常导致这样的缺陷,诸如,额外的用于使处理设备适于不同的生产任务的设计工作。这导致成本增加。

发明内容

本发明的目的在于提供一种具有光束引导装置的处理设备,其中以最佳的方式将所述光束引导装置整合在所述机器中而可能不会影响该机器的功能性。

该目的是通过根据权利要求1所述的设备来实现的。可以从从属权利要求来推断有利的实施方式。

本发明基于以下构思,即,在处理机内部设置光束引导装置,使得这不需要任何显著的修改或新的结构。因此,目的在于通过所述处理机中的接口提供能量引入,其中通过所述处理机能够进行常规处理,例如仿形切割,其中,能量(尤其是,辐射能量)的传输在所述设备内部运行,至少某些部分中通过轴的腔和/或被附接到该轴的单元内部的腔运行。

应当指出的是,与此相关,术语“辐射”在本申请含义内应以宽泛的方式来解释。在本申请中仅通过实施例来提及激光辐射。然而,还包括微波辐射、UV辐射、红外辐射、热辐射等。因此,“辐射”在本申请含义内应被理解为从发生器源传输到处理区域的能量。

因此,根据本发明提供一种设备,该设备具有:辐射装置,该辐射装置用于产生和/或传输辐射,所述辐射装置优选地为激光束;以及轴单元,该轴单元具有在轴支承部分内可旋转的轴以及用于容纳处理工具和/或处理单元的保持器。

该新颖的设备的特征在于,所述轴和/或所述轴支承部分在至少某些部分中具有腔并且所述辐射装置被布置成使得所述辐射的至少某些部分在所述腔内传送。

在优选的实施方式中,至少某些部分在所述轴和/或所述轴支承部分内延伸的所述腔终止于用于容纳处理工具和/或处理单元的所述保持器附近或终止于被连接到该轴的单元中。所述单元例如可构造为卡盘。如果因此将所述辐射引导通过所述腔,那么所述辐射最终到达出口区域并且能够从该出口区域被传输到特定处理单元,例如胶粘单元。

此外,在一个实施方式中设置成,所述腔沿所述轴的轴向延伸通过整个轴。因此,所述轴本身能够被用作用于辐射的传导部分。还可设置成,所述腔延伸通过卡紧工具,该卡紧工具贯穿所述轴。这种卡紧工具例如可以是拉杆,所述卡盘例如通过所述拉杆可移除地附接到所述轴。因此,辐射在根据本发明的所述设备内部的传输尤其有利地被整合。

还可设置成,所述轴单元能够在至少一个方向上来回移动,优选地能够在三个不同的方向上来回移动。所述轴单元另选地或另外地可绕至少一条轴线枢转。所述轴单元作为5轴单元(至少三条平移轴线以及两条旋转轴线)的构造是尤其优选的。

所述辐射单元还可被直接或间接接合到所述轴单元,或甚至可以随所述轴单元可来回移动。如果所述辐射单元被间接连接到所述轴单元,那么可以设置成,所述辐射单元利用辐射服务多个设备。

还可以构想出不同的变型,在该变型中,被连接到所述轴的处理单元(优选地,胶粘单元)是可旋转的。在一个变型中,通过使所述轴以及附接到该轴的所述处理单元旋转,能够实现所述处理单元的旋转以及因此实现出射的激光束的旋转。在另一变型中,所述处理单元相对于所述轴被以可旋转的方式支承。在又一变型中,被附接在所述轴和所述处理单元之间的卡盘能够代替所述轴旋转。

在具体实施方式中,所述处理单元被构造为所谓的固定单元。这可用来将涂覆材料施加到工件。在该情况下,通过根据本发明的所述设备供应的辐射被用于激活、优选地加热所述工件和/或所述涂覆材料(可以利用所述工件和所述涂覆材料之间的相互作用),使得所述涂覆材料因此能够被随后施加到所述工件。

在另一实施方式中,所述处理单元能够被插入到所述轴的所述保持器内或插入到被连接到该轴的所述单元(卡盘)内,并且能够从所述保持器或所述单元移除。结果,根据本发明的所述设备是尤其灵活的,因为能够插入不同类型的处理单元,由此被供应到所述设备的所述辐射能够部分地用于进行处理。

附图说明

图1示出了本发明的第一优选实施方式的剖面图。

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