[发明专利]处理设备

权利要求书

1.一种用于处理工件的设备，所述处理尤其是涂覆，所述工件优选地至少某些部分由木材、木质材料、塑料等构成，所述设备具有：

辐射装置，该辐射装置用于产生和/或传输辐射，所述辐射优选地是激光束；以及

轴单元，所述轴单元具有在轴支承部分(2)内可旋转的轴(4)以及用于容纳处理工具和/或处理单元的保持器(5)；

所述设备的特征在于，

所述轴(4)和/或被附接到所述轴的单元(10)至少在某些部分中具有腔(4b、9a、2b)；并且

所述辐射装置被布置成使得所述辐射的至少某些部分在所述腔内传送。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述腔终止于用于容纳处理工具和/或处理单元的所述保持器(5)附近和/或终止于被连接到所述轴(4)的所述单元(10)中。

3.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述腔沿所述轴(4)的轴向延伸通过整个轴(4)。

4.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，所述腔(9a)延伸通过卡紧工具(9)，所述卡紧工具(9)延伸通过所述轴(4)，所述卡紧工具(9)尤其沿所述轴(4)的轴向延伸并且被配置成容纳所述单元(10)。

5.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，至少一个轴单元可在至少一个方向上来回移动，优选地可在三个不同的方向上来回移动。

6.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，至少一个辐射单元被直接或间接接合到所述轴单元并且优选地可随该轴单元来回移动。

7.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，所述设备还具有用于辐射的第一传输单元(7a)，所述第一传输单元配置成将所述辐射单元所产生的辐射传输到所述轴的所述腔。

8.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，所述设备还具有用于辐射的第二传输单元，所述第二传输单元配置成将离开所述轴的所述腔的辐射传输到处理区域，尤其是传输到工件或者待被接合到该工件的部件。

9.根据权利要求7或8所述的设备，其特征在于，至少一个传输单元具有至少一个辐射引导装置，所述辐射引导装置选自反射光学器件或透射光学器件，尤其是选自包括纤维光缆、镜、透镜和棱镜的组。

10.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，所述设备还具有处理单元(6)、尤其是用于将涂覆材料附着到工件的固定单元。

11.根据权利要求10所述的设备，其特征在于，所述处理设备(6)能够被插入到所述轴(4)的所述保持器(5)中或者被插入到被连接到所述轴(4)的所述单元(10)中，并且能够被从所述保持器(5)或所述单元(10)移除。

12.根据权利要求10所述的设备，其特征在于，所述处理单元(6)相对于所述轴(4)被以可旋转的方式支承。

13.根据权利要求12所述的设备，其特征在于，其中，所述轴(4)、被附接到所述轴的所述单元(10)和/或被附接到所述轴(4)或单元(10)的所述处理单元(6)能够以可旋转的方式被驱动。

14.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，所述设备还具有辐射反射装置(20)，所述辐射反射装置(20)配置并布置成将由涂覆材料反射的辐射反射到该涂覆材料上。

15.根据权利要求14所述的设备，其特征在于，所述辐射反射装置(20)具有型面，尤其是具有波纹面，

由此，所述型面形成为使得射到所述型面上的所述辐射远离所述涂覆材料的出口孔(26a)。