[发明专利]一种带隙可调的二氧化钛/氮化钛复合薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种带隙可调的二氧化钛/氮化钛复合薄膜的制备方法，其特征在于：该方法包括如下步骤：

a.用射频磁控溅射法在基片上沉积氮化钛薄膜；

b.将制备好的氮化钛薄膜在空气条件下，在473K～973K退火10min～180min，得到二氧化钛/氮化钛复合薄膜。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：步骤a的具体步骤如下：

(1)对硅基底或石英基底进行预处理；

(2)将预处理过的基底固定在磁控溅射镀膜机的样品台上；

(3)采用氮化钛为靶材，将磁控溅射镀膜机腔室抽真空至压强为6×10^-4Pa以下；

(4)通入氩气和氮气，保持工作气压0.8～4Pa；

(5)在样品台的基底上生长200～1000nm厚的氮化钛薄膜。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：退火温度为623K。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：步骤(3)中压强为(2～6)×10^-4Pa。

5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：步骤(5)中样品台静止或以0.1～0.6rpm的速率旋转。

6.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：溅射前要调整靶材与样品台的角度，使二者正对，靶材和样品台距离保持6～15cm。

7.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：步骤(5)中溅射时样品台的温度为273～373K。

8.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：步骤(4)中氮气的体积分数为3～20％。

9.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：步骤(1)所述预处理的方法为：用丙酮、酒精和去离子水依次超声清洗并晾干。

10.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：步骤(5)中氮化钛薄膜的厚度为800nm。