[发明专利]在化学法钢化的光学玻璃表面镀增透膜的方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种在光学玻璃表面镀增透膜的方法，尤其是涉及一种在化学法钢化的光学玻璃表面镀增透膜的方法。 

背景技术

在人们的日常生活中的许多场合，均会遇到使用小尺寸光学窗口的情况。为了提高这种小尺寸光学窗口器件强度，通常使用钢化玻璃作为基片，并通过在其表面化镀增透膜的方法来提高它的光学透过率。但是，人们在日常的生产加工过程中发现，由于这些光学窗口器件的尺较小，因此基片通常是使用光学玻璃进行化学钢化后制成的。而通过镀膜制成光学窗口器件成品后其钢化强度通常会受到一定程度的破坏。我们使用目前常用的三种钢化检测方法对一块经化学钢化后的光学玻璃样品在单面镀膜前后的钢化强度进行检测后发现，除钢化深度和表面应力没有明显变化外，弯曲强度由1201Mpa下降到942Mpa，抗跌落高度由1500毫米下降到600毫米。 

发明内容 

本发明所要解决的技术问题是提供一种在化学法钢化的光学玻璃表面镀增透膜的方法，能够在实现光学性能的前提下，保证对化学法钢化的光学玻璃基片的钢化性能具有较小的影响。 

本发明解决上述技术问题所采用的技术方案为：一种在化学法钢化的光学玻璃表面镀增透膜的方法，包括用光学镀膜机在由化学法钢化的光学玻璃基片的表面镀增透膜层，在所述的光学玻璃基片的表面与所述的增透膜层之间设置一层缓冲膜层，根据所述的增透膜层的应力特性，将所述的缓冲膜层的应力特性设置成与所述的增透膜层的应力特性相反，所述的缓冲膜层的应力大小等于所述的增透膜层的应力的大小±5％。 

将所述的增透膜层的应力设置成张应力，所述的缓冲膜层的应力设置成压应力。 

用厚度为130～180nm的SiO₂层构成所述的缓冲膜层，用至少两层复合膜层构成所述的增透膜层，所述的复合膜层采用先镀一层高折射率层，再镀一层低折射率层的方式构成，控制所述的高折射率层的厚度为所述的复合膜层厚度的5％～15％。 

所述的缓冲膜层的厚度最好为150nm。 

所述的高折射率层使用HfO₂、ZrO₂或Ti₃O₅材料制成，所述的低折射率层使用SiO₂材料制成。 

与现有技术相比，本发明的优点在于通过在由化学法钢化的光学玻璃基片的表面与增透膜层之间设置一层缓冲膜层，并根据增透膜层的应力特性，将缓冲膜层的应力特性设置成与增透膜层的应力特性相反，缓冲膜层的应力大小等于增透膜层的应力的大小±5％，可以有效地防止镀膜对光学窗口器件的钢化强度造成的破坏；而根据钢化玻璃本身的应力特性，最好将增透膜层的应力设置成张应力，将缓冲膜层的应力设置成压应力。 

具体实施方式

以下结合实施例对本发明作进一步详细描述。 

实施例一：一种在化学法钢化的光学玻璃表面镀增透膜的方法，在由化学法钢化的光学玻璃基片的表面先用光学镀膜机镀一层150nm的SiO₂缓冲膜层，然后再用光学镀膜机镀两层复合膜层构成增透膜层，复合膜层采用先镀一层HfO₂层，再镀一层SiO₂层的方式构成，控制HfO₂层的厚度为复合膜层厚度的6％。 

实施例二：一种在化学法钢化的光学玻璃表面镀增透膜的方法，在由化学法钢化的光学玻璃基片的表面先用光学镀膜机镀一层130nm的SiO₂缓冲膜层，然后再用光学镀膜机镀两层复合膜层构成增透膜层，复合膜层采用先镀一层HfO₂层，再镀一层SiO₂层的方式构成，控制HfO₂层的厚度为复合膜层厚度的15％。 

实施例三：一种在化学法钢化的光学玻璃表面镀增透膜的方法，在由化学法钢化的光学玻璃基片的表面先用光学镀膜机镀一层18Onm的SiO₂缓冲膜层，然后再用光学镀膜机镀两层复合膜层构成增透膜层，复合膜层采用先镀一层HfO₂层，再镀一层SiO₂层的方式构成，控制HfO₂层的厚度为复合膜层厚度的13％。