[发明专利]溶解氮浓度监测方法、基材清洁方法及基材清洁装置有效
| 申请号: | 201180061112.2 | 申请日: | 2011-12-13 |
| 公开(公告)号: | CN103261885A | 公开(公告)日: | 2013-08-21 |
| 发明(设计)人: | 榛原照男;久保悦子;森良弘;内部真佐志 | 申请(专利权)人: | 硅电子股份公司 |
| 主分类号: | G01N33/18 | 分类号: | G01N33/18;H01L21/02;B08B3/12 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 李振东;过晓东 |
| 地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 溶解 浓度 监测 方法 基材 清洁 装置 | ||
1.在用超声波照射有基材浸入其中的清洁液时监测清洁液的溶解氮浓度的溶解氮浓度监测方法,该方法的特征在于包括以下步骤:
测量通过由超声波照射引起的自由基反应由于由水分子产生的氧分子导致的清洁液的溶解氧浓度增加量;及
基于溶解氮浓度与溶解氧浓度增加量之间的预定的关系,由测得的所述溶解氧浓度增加量计算清洁液的溶解氮浓度。
2.根据权利要求1的溶解氮浓度监测方法,其中:
基于表明清洁液的所述溶解氮浓度与其所述溶解氧浓度增加量之间关系的溶解气体信息,由利用溶解氧浓度计测得的溶解氧浓度增加量计算清洁液的所述溶解氮浓度。
3.根据权利要求1或2的溶解氮浓度监测方法,其中:
针对所述基材的各种清洁条件预先编制所述溶解气体信息。
4.根据权利要求1至3之一的溶解氮浓度监测方法,其中:
所述基材的所述清洁条件包括超声波输出功率水平。
5.根据权利要求4的溶解氮浓度监测方法,其中:
所述溶解气体信息表明,随着所述超声波输出功率水平升高,对应于特定的溶解氮浓度的所述溶解氧浓度增加量升高。
6.根据权利要求1至3之一的溶解氮浓度监测方法,其中:
所述基材的所述清洁条件包括清洁液的溢流率。
7.根据权利要求6的溶解氮浓度监测方法,其中:
所述溶解气体信息表明,随着所述溢流率减少,对应于所述溶解氮浓度的所述溶解氧浓度增加量的变化率增大。
8.根据权利要求1至7之一的溶解氮浓度监测方法,其中:
所述清洁液是水。
9.通过用超声波照射有基材浸入其中的清洁液而清洁所述基材的方法,所述方法的特征在于包括以下步骤:
测量通过由超声波照射引起的自由基反应由于由水分子产生的氧分子导致的所述清洁液的溶解氧浓度增加量;及
调节待引入清洁浴槽中的含有溶解的氮气的清洁液的混合比例,从而使所述溶解氧浓度增加量在清洁效果好的特定范围内。
10.通过用超声波照射有基材浸入其中的清洁液而清洁所述基材的装置,所述装置的特征在于实施以下步骤:
测量通过由超声波照射引起的自由基反应由于由水分子产生的氧分子导致的所述清洁液的溶解氧浓度增加量;及
调节待引入清洁浴槽中的含有溶解的氮气的清洁液的混合比例,从而使所述溶解氧浓度增加量在清洁效果好的特定范围内。
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