[发明专利]门驱动器和闭门器的壳体和结构部件的紫外激光暴露

权利要求书

1.一种门操作器或所述闭门器(1)，所述门操作器或闭门器(1)具有至少一个壳体(2)和至少一个活塞(7)，所述活塞被支撑，用以能够在所述至少一个壳体(2)的接纳单元(5)中移动，其特征在于，所述接纳单元(5)的表面(6)和∕或所述至少一个活塞(7)的表面(8)已经通过暴露于电磁辐射进行处理。

2.根据权利要求1所述的门操作器或闭门器(1)，其特征在于：所述表面(6，8)暴露于的所述电磁辐射包括脉冲准分子激光器的光。

3.根据权利要求1或2所述的门操作器或闭门器(1)，其特征在于：以具有如下能量密度的电磁辐射处理所述接纳单元(5)的表面(6)和∕或所述至少一个活塞(7)的表面(8)，即：使得与所述壳体(2)和∕或所述至少一个活塞(7)的材料的其余部分相比，所述接纳单元(5)的所述表面(6)和∕或所述至少一个活塞(7)的所述表面(8)在微米范围内，特别是直到达到从0.5微米至2.5微米的深度上具有改进的材料结构，其中，所述改进的材料结构比所述门操作器或所述闭门器(1)的未利用光进行处理的区域具有更高的强度和∕或更光滑的表面光洁度。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的门操作器或闭门器(1)，其特征在于，所述接纳单元(5)的所述表面(6)和∕或所述至少一个活塞(7)的所述表面(8)已经以具有如下能量密度的电磁辐射进行处理，即：使得由于光处理期间的等离子体的产生，在微米范围内，特别是直到达到从0.5微米到2.5微米的深度上，所述表面比所述门操作器或所述闭门器(1)的未以光进行处理的区域呈现更高的氮含量。

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的门操作器或闭门器(1)，其特征在于，所述接纳单元(5)的所述表面(6)和∕或所述至少一个活塞(7)的所述表面(8)已经以具有如下能量密度的电磁辐射进行处理，即：使得由于光处理期间的等离子体的产生，在微米范围内，特别是直到达到从0.5微米至2.5微米的深度上，所述表面比所述门操作器或所述闭门器(1)的未以光进行处理的区域呈现更低的石墨粒子含量。