[发明专利]轴承构件特别是滚动轴承保持架及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201180040298.3 申请日: 2011-08-03
公开(公告)号: CN103080577A 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: W·布劳恩 申请(专利权)人: 谢夫勒科技股份两合公司
主分类号: F16C33/46 分类号: F16C33/46;F16C33/56;B29C67/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 俞海舟
地址: 德国黑措*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 轴承 构件 特别是 滚动轴承 保持 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种用于制造轴承构件、特别是滚动轴承保持架(1)的方法,包含下面的步骤:

提供与最终轮廓近似的、借助于光固化成形方法或借助于3D打印方法制造的基体(2),和

给所提供的基体(2)以薄的纳米晶涂层(3)进行涂布。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,涂布步骤包含电化学的、特别是电镀的析出步骤。

3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,涂布步骤包含从气相析出的析出步骤、特别是CVD步骤或PVD步骤。

4.如权利要求1至3之一项所述的方法,其特征在于,基体(2)作为空心件提供。

5.一种轴承构件、特别是滚动轴承保持架,其按照权利要求1至4之一项所述的方法制造。

6.一种轴承构件、特别是滚动轴承保持架,其包含基体(2)以及在基体(2)上固定的纳米晶涂层(3),其特征在于,基体(2)借助于光固化成形方法或借助于3D打印方法制造。

7.如权利要求6所述的轴承构件,其特征在于,基体(2)设计成空心件。

8.如权利要求6或7所述的轴承构件,其特征在于,纳米晶涂层(2)设计成金属的涂层,其具有大约20微米至大约1000微米的层厚度。

9.如权利要求6至8之一项所述的轴承构件,其特征在于,纳米晶涂层(3)具有小于大约500纳米、特别是小于大约100纳米的平均粒度。

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