[发明专利]用于检查结构化对象的光学设备和方法有效

专利信息
申请号: 201180021226.4 申请日: 2011-04-19
公开(公告)号: CN102893121A 公开(公告)日: 2013-01-23
发明(设计)人: 吉莱斯·弗莱斯阔特 申请(专利权)人: 纳米技术公司
主分类号: G01B9/02 分类号: G01B9/02;G02B21/00
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 余朦;王艳春
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要:
搜索关键词: 用于 检查 结构 对象 光学 设备 方法
【权利要求书】:

1.用于检查结构化对象(4)的显微镜设备,包括:

-相机(1),

-光学成像装置(2),其能够根据视场在所述相机(1)上产生所述对象(4)的图像,所述光学成像装置(2)包括远透镜(3),所述远透镜布置在所述对象(4)侧,

-低相干红外干涉仪(5),包括具有多个红外波长的测量光束(6),所述低相干红外干涉仪能够通过所述测量光束(6)的回射与至少一个单独的光学参考之间的干涉产生测量,

其特征在于:

-所述设备还包括耦合装置(7),用于以这样的方式将所述测量光束射入所述光学成像装置(2),使得所述测量光束穿过所述远透镜(3),并根据基本包括在所述成像装置(2)的视场中的测量区域与所述对象(4)相交,以及

-所述低相干红外干涉仪(5)以这样的方式平衡,使得仅在与所述光束(6)覆盖的至所述对象(4)的光程接近的光程下发生的测量光束回射(6)产生测量,限定测量范围。

2.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,所述远透镜(3)被设计为产生可见光波长下的图像。

3.根据权利要求1或2所述的设备,其特征在于,所述远透镜(3)包括显微镜透镜。

4.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其特征在于,所述测量光束(6)包括1100纳米至1700纳米之间的波长。

5.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其特征在于,所述设备还包括第一放大装置(3、8),所述第一放大装置用于改变所述光学成像装置(2)的放大率,以同时以基本等同的比例更改测量区域的视场和尺寸。

6.根据权利要求5所述的设备,其特征在于,所述第一放大装置(3、8)包括下列元件中的至少一个元件:转台,装配有具有不同放大率的光学器件;以及放大率可变的光学器件。

7.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其特征在于,所述设备还包括第二放大装置(9),所述第二放大装置(9)用于更改所述测量光束(6)的放大率,从而更改所述测量区域相对于所述视场的尺寸。

8.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其特征在于,所述设备还包括所述对象(4)和所述光学成像装置(2)的相对移动装置(10)。

9.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其特征在于,所述设备还包括所述对象(4)和所述测量光束(6)的相对移动装置(11)。

10.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其特征在于,所述设备还包括照明装置(12),所述照明装置(12)产生具有可变波长的照明光束(25),被布置成穿过所述远透镜(3)照亮所述对象(4)。

11.根据权利要求10所述的设备,其特征在于,所述设备还在所述远透镜(3)处包括全域干涉仪(13),所述全域干涉仪能够在所述相机(1)上产生与所述对象的图像重叠的干涉条纹,由此推断所述对象(4)的表面的外形。

12.根据权利要求11所述的设备,其特征在于,所述全域干涉仪包括分色元件(30、31、32),所述分色元件对所述测量光束(6)的波长基本是透明的。

13.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其特征在于,所述设备还包括照明装置(14),所述照明装置被布置成关于所述成像装置与所述对象相对,所述照明装置包括波长大于1微米的光源。

14.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其特征在于,所述低相干红外干涉仪(5)允许在所述测量范围内测量下列元素中的至少一个元素:

-对所述测量光束的波长基本是透明的至少一层材料的光学厚度,

-图案高度,所述图案的至少较高部分以及至少较低部分包括在所述测量区域中,

-在所述测量范围内的所述测量光束(6)与所述对象(4)之间的接触点的绝对高度。

15.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其特征在于,所述设备还包括观察光束(15),所述观察光束(15)与所述测量光束(6)重叠,并包括可由所述相机(1)探测到的至少一个波长。

16.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其特征在于,所述设备还包括数字处理和显示装置(16),所述数字处理和显示装置(16)能够产生包括所述测量区域的显示的视场的图像。

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