[发明专利]超亲水和捕水表面

权利要求书

1.一种经涂覆的基材，包括：

包括非水溶性聚合物和水溶性聚合物的涂层；和

被所述涂层覆盖的基材；

其中两种所述聚合物，由于不同的亲水性，形成具有1-10nm的厚度的纳米分离体。

2.如权利要求1中的经涂覆的基材，其中所述水溶性聚合物包括羧酸基团。

3.如权利要求1中的经涂覆的基材，其中所述水溶性聚合物包括磺酸基团。

4.如权利要求1中的经涂覆的基材，其中所述非水溶性聚合物包括苯胺基团。

5.如权利要求1中的经涂覆的基材，其中所述非水溶性聚合物包括噻吩基团。

6.如权利要求5中的经涂覆的基材，其中所述水溶性聚合物包括磺酸基团。

7.如权利要求6中的经涂覆的基材，其中所述非水溶性聚合物为聚(3，4-亚乙基二氧噻吩)(“PEDT”)，并且所述水溶性聚合物为聚(苯乙烯磺酸)(“PSSH”)。

8.如权利要求7中的经涂覆的基材，其中PEDT和PSSH之间的比例为1∶2.5到1∶20重量比。

9.如权利要求8中的经涂覆的基材，其中PEDT和PSSH之间的比例为1∶6重量比。

10.如权利要求1中的经涂覆的基材，其中所述纳米分离体具有1-5nm的厚度。

11.如权利要求1中的经涂覆的基材，其中所述纳米分离体具有0-25°的水接触角。

12.如权利要求11中的经涂覆的基材，其中所述纳米分离体具有5-20°的水接触角。

13.如权利要求1中的经涂覆的基材，其中所述纳米分离体具有捕获0.1-10mm厚度的水膜的能力。

14.如权利要求13中的经涂覆的基材，其中所述纳米分离体捕获0.5-3.0mm厚度的水膜。

15.如权利要求7中的经涂覆的基材，其中所述纳米分离体具有1-5nm的厚度、5-20°的水接触角，并且所述纳米分离体具有捕获0.5-3.0mm厚度的水膜的能力。

16.如权利要求1中的经涂覆的基材，其中所述纳米分离体具有1-5nm的厚度、5-20°的水接触角，并且所述纳米分离体具有捕获0.5-3.0mm的厚度的水膜的能力。

17.制备经涂覆的基材的方法，所述方法包括：

提供包括水溶性聚合物和非水溶性聚合物的水性分散体；

将所述水性分散体施加于基材的表面；和

使施加的所述水性分散体干燥，从而由于两种所述聚合物不同的亲水性而在所述基材的表面上形成纳米分离体。

18.如权利要求17中的方法，进一步包括去除过量的所施加的聚合物以暴露所述纳米分离体。

19.如权利要求17中的方法，其中所述水溶性聚合物包括羧酸基团或磺酸基团。

20.如权利要求17中的方法，其中所述非水溶性聚合物包括苯胺或噻吩基团。

21.如权利要求20中的方法，其中所述水溶性聚合物包括羧酸基团或磺酸基团。

22.如权利要求21中的方法，其中所述非水溶性聚合物为聚(3，4-亚乙基二氧噻吩)(“PEDT”)，并且所述水溶性聚合物为聚(苯乙烯磺酸)(“PSSH”)。

23.如权利要求22中的方法，其中PEDT和PSSH之间的比例为1∶2.5到1∶20重量比。

24.如权利要求23中的方法，其中PEDT和PSSH之间的比例为1∶6重量比。

25.如权利要求22中的方法，其中所述纳米分离体具有1-5nm的厚度、5-20°的水接触角，并且所述纳米分离体具有捕获0.5-3.0mm的厚度的水膜的能力。

26.如权利要求17中的方法，其中所述纳米分离体具有1-5nm的厚度、5-20°的水接触角，并且所述纳米分离体具有捕获0.5-3.0mm的厚度的水膜的能力。