[发明专利]摄像用透镜、晶片透镜、晶片透镜层叠体、摄像用透镜的制造方法、摄像用透镜的中间物、摄像用透镜的中间物的制造方法有效
申请号: | 201180002992.6 | 申请日: | 2011-04-22 |
公开(公告)号: | CN102472839A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
发明(设计)人: | 岸波胜也;益富春彦 | 申请(专利权)人: | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00;B29C39/10;B29C65/70;G02B7/02;B29L11/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 贾成功 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 摄像 透镜 晶片 层叠 制造 方法 中间 | ||
1.一种摄像用透镜,其特征在于,具备:
在基板上形成而调整光量的具有规定的开口的光圈;
在所述基板上以覆盖所述光圈的方式形成的无机或有机粘接层;和
具有固化性树脂制的透镜部的树脂部,
所述树脂部直接接合于所述无机或有机粘接层。
2.一种摄像用透镜,其特征在于,具备:
在基板上形成而调整光量的具有规定的开口的光圈;
在所述基板上以使所述光圈露出的方式形成的无机或有机粘接层;和
具有所述固化性树脂制的透镜部的树脂部,
所述树脂部直接接合于所述无机或有机粘接层及所述光圈。
3.如权利要求2所述的摄像用透镜,其特征在于,对所述基板上及所述光圈实施有表面改性处理。
4.如权利要求1~3的任一项所述的摄像用透镜,其特征在于,所述有机粘接层是硅烷偶联剂层。
5.如权利要求1~4的任一项所述的摄像用透镜,其特征在于,所述光圈由含有黑色填料的树脂形成。
6.如权利要求1~5的任一项所述的摄像用透镜,其特征在于,所述透镜部在所述基板的物体侧表面及像侧表面的两面形成。
7.如权利要求1~6的任一项所述的摄像用透镜,其特征在于,所述无机或有机粘接层是从所述基板侧以无机粘接层、有机粘接层的顺序层叠了的多层的结构。
8.如权利要求1~7的任一项所述的摄像用透镜,其特征在于,在所述基板与所述光圈之间具备有机粘接层。
9.如权利要求1~8的任一项所述的摄像用透镜,其特征在于,在所述基板表面,在最外层形成有IR阻隔膜。
10.一种晶片透镜,其特征在于,具备:
在基板上形成而调整光量的具有规定的开口的多个光圈;
在所述基板上以覆盖所述光圈的方式形成的无机或有机粘接层;和
具有固化性树脂制的多个透镜部的树脂部,
所述树脂部直接接合于所述无机或有机粘接层。
11.一种晶片透镜,其特征在于,具备:
在基板上形成而调整光量的具有规定的开口的多个光圈;
在所述基板上以使所述光圈露出的方式形成的无机或有机粘接层;和
具有所述固化性树脂制的多个透镜部的树脂部,
所述树脂部直接接合于所述无机或有机粘接层及所述光圈。
12.如权利要求11所述的晶片透镜,其特征在于,对所述基板上及所述光圈实施有表面改性处理。
13.如权利要求10~12的任一项所述的晶片透镜,其特征在于,所述有机粘接层是硅烷偶联剂层。
14.如权利要求10~13的任一项所述的晶片透镜,其特征在于,所述光圈由含有黑色填料的树脂形成。
15.如权利要求10~14的任一项所述的晶片透镜,其特征在于,所述光圈的树脂是具有羟基、羧基等的易反应性基团的树脂,具有所述透镜部的树脂也是具有羟基、羧基等的易反应性基团的树脂。
16.如权利要求10~15的任一项所述的晶片透镜,其特征在于,所述光圈的树脂是环氧树脂、丙烯酸类、或烯丙基酯,具有所述透镜部的树脂也是环氧树脂、丙烯酸类、或烯丙基酯。
17.如权利要求14~16的任一项所述的晶片透镜,其特征在于,所述透镜部在所述基板的物体侧表面及像侧表面的两面形成。
18.如权利要求14~17的任一项所述的晶片透镜,其特征在于,所述无机或有机粘接层是从所述基板侧以无机粘接层、有机粘接层的顺序层叠了的多层的结构。
19.如权利要求14~18的任一项所述的晶片透镜,其特征在于,在所述基板与所述光圈之间具备有机粘接层。
20.如权利要求14~19的任一项所述的晶片透镜,其特征在于,所述光圈以包围所述透镜部的外周的俯视环状而形成。
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