[实用新型]真空低压渗碳设备渗碳气体送排系统精确控制装置有效
申请号: | 201120508086.0 | 申请日: | 2011-12-08 |
公开(公告)号: | CN202380069U | 公开(公告)日: | 2012-08-15 |
发明(设计)人: | 周有臣;宋家奇;吴坚;王学敏;周新宇;杜春辉;王赫;刘永;李勇;丛培武 | 申请(专利权)人: | 北京机电研究所 |
主分类号: | C23C8/20 | 分类号: | C23C8/20 |
代理公司: | 北京方韬法业专利代理事务所 11303 | 代理人: | 吴景曾 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空 低压 渗碳 设备 气体 系统 精确 控制 装置 | ||
1.一种真空低压渗碳设备渗碳气体送排系统精确控制装置,在真空低压渗碳设备炉胆内设有几组渗碳气体喷嘴,每组喷嘴都有独立的三条供气管路,分别提供乙炔气、氨气和高纯氮气,其特征在于:在每条供气管路的进气端均各自安装有质量流量计、电磁阀,在三条供气管路的出口处,装有一个对所充三种气体进行混合的混合器;在所述的真空低压渗碳设备的抽真空管路中,设有可捕集炭黑的炭黑捕集器。
2.根据权利要求1所述的真空低压渗碳设备渗碳气体送排系统精确控制装置,其特征在于:所述的真空低压渗碳设备与工控机相连,由可编程序控制器在工控机的管控下遂行各设定程序,完成逻辑动作控制、对炉外充气管路、炉内充气管路以及抽气管路的控制。
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