[实用新型]彩膜基板及液晶显示面板

说明书

技术领域

本实用新型涉及液晶显示领域，特别是指一种彩膜基板及液晶显示面板。

背景技术

a-Si TFT LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜场效应晶体管液晶显示器)因其薄型轻便并具有较高的图像质量成为当今显示器的首选。随着液晶显示屏向大容量高清晰度的方向发展，对显示图像的对比度、亮度和功耗等要求也越来越高。高亮度就要求液晶盒具有较高的透过率，而提高液晶盒透过率的最有效手段之一是增大开口率，即增大像素透光部分的面积。传统的黑矩阵设计，在黑矩阵的拐角处是直角，在工艺实现的过程中，由于设备问题和工艺水平问题，如图1所示，在黑矩阵2的拐角处会有黑矩阵残余，这样就降低了显示器的开口率，影响了开口率的性能。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种彩膜基板及液晶显示面板，能够增大液晶显示器的开口率，提高液晶显示器的透过率，进而提高液晶显示器的亮度。

为解决上述技术问题，本实用新型的实施例提供技术方案如下：

一方面，提供一种彩膜基板，包括由黑矩阵单元限定出的多个次像素区，所述黑矩阵单元与所述次像素区相邻的拐角处的横截面具有凹陷的轮廓。

其中，所述凹陷的轮廓为圆形的一部分。

其中，所述凹陷的轮廓为多边形的一部分。

其中，所述次像素区包含有红色滤光片、绿色滤光片、蓝色滤光片中的至少之一。

本发明实施例还提供了一种液晶显示面板，包括一彩膜基板，所述彩膜基板包括由黑矩阵单元限定出的多个次像素区，所述黑矩阵单元与所述次像素区相邻的拐角处的横截面具有凹陷的轮廓。

其中，所述凹陷的轮廓为圆形的一部分。

其中，所述凹陷的轮廓为多边形的一部分。

其中，所述次像素区包含有红色滤光片、绿色滤光片、蓝色滤光片中的至少之一。

本实用新型的实施例具有以下有益效果：

上述方案中，彩膜基板由黑矩阵单元限定出的多个次像素区组成，黑矩阵单元与次像素区相邻的拐角处的横截面具有凹陷的轮廓，这样黑矩阵单元横截面的拐角处不会有黑矩阵残余，能够增大液晶显示器的开口率，提高液晶显示器的透过率，进而提高液晶显示器的亮度。

附图说明

图1为现有技术中黑矩阵的横截面示意图；

图2为本实用新型实施例的黑矩阵的横截面示意图；

图3为本实用新型另一实施例的黑矩阵的横截面示意图；

图4为本实用新型实施例的彩膜基板的结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。

本实用新型的实施例针对现有技术中黑矩阵的拐角处存在黑矩阵残余，导致液晶显示器的开口率降低的问题，提供一种彩膜基板，能够增大液晶显示器的开口率，提高液晶显示器的透过率，进而提高液晶显示器的亮度。

本实用新型的彩膜基板，包括由黑矩阵单元限定出的多个次像素区，次像素区包含有红色滤光片、绿色滤光片、蓝色滤光片中的至少之一。其中，黑矩阵单元与次像素区相邻的拐角处的横截面具有凹陷的轮廓。

该凹陷的轮廓可以为圆形的一部分，具体地，如图2所示，该凹陷的轮廓可以为四分之三的圆形。

进一步地，凹陷的轮廓还可以为正多边形的一部分，如图3所示，凹陷的轮廓可以为正四边形的一部分。

进一步地，在实际应用中，凹陷的轮廓还可以为多边形或其他不规则形状，凹陷的面积可以根据实际需要来设置，凹陷的轮廓组成的图形的尺寸应小于彩膜曝光机的分辨率(通常为8um)，并且大于掩膜厂家制造掩膜版时使用的曝光机的分辨能力，以不影响黑矩阵的正常使用和功能为准。

在实际应用中，本实施例的彩膜基板可以以下步骤1～4进行制造，形成如图4所示的彩膜基板：

步骤1：提供基板1，在基板1表面形成黑矩阵2；

在基板1上涂覆一层黑矩阵材料层，通过刻画有图形的掩模板曝光并显影，得到黑矩阵图形，其中，形成的每一黑矩阵单元与次像素区相邻的拐角处的横截面具有凹陷的轮廓；

步骤2：在黑矩阵2上形成像素3；

在形成黑矩阵后，在黑矩阵上涂覆红色像素树脂层，通过刻画有图形的掩模板曝光并显影，得到红色像素，重复上述步骤得到绿色像素和蓝色像素；

步骤3：在完成步骤2的基板上涂覆保护层4；

步骤4：步骤3完成后，在保护层4上形成柱状隔垫物5。