[实用新型]一种磁控溅射镀膜设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种镀膜设备，尤其涉及一种磁控溅射镀膜设备。

背景技术

磁控溅射镀膜设备是一种应用极其广泛的真空镀膜设备，被广泛用于工艺美术、装璜装饰、玩具等领域镀制产品，主要用于在已预处理好的塑料、陶瓷等制品表面镀金属薄膜、仿金膜，从而获得光亮美观、价廉的表面金属化的塑料、陶瓷制品。目前的磁控溅射镀膜设备的磁控溅射靶以及蒸发源都是固定安装在真空室内，对于一些大尺寸、大曲率、异形衬底的基片镀膜具有较大的局限性，在镀膜过程各个镀膜位置与靶的距离差异较大，大尺寸产品的一些部位距离靶太远，异形衬底的产品倾斜角度处难以接受局部加量的镀膜，从而导致镀膜产品的均匀性、牢固度、耐磨度都无法达到要求。

发明内容

针对现有技术不足，本实用新型要解决的技术问题是提供一种专用于大曲率、大尺寸、异形衬底的基片镀制高均匀性、高牢固度、高耐磨度光电薄膜的磁控溅射镀膜设备。

为了克服现有技术不足，本实用新型采用的技术方案是：一种磁控溅射镀膜设备，其包括真空箱、设于所述真空箱内的移动小车、与所述移动小车连接并驱使所述移动小车作水平移动的直行驱动装置、与所述直行驱动装置连接的靶连接座、分别与所述直行驱动装置以及靶连接座连接并驱动所述靶连接座作纵向移动的升降驱动装置、与所述靶连接座固定连接磁控溅射靶。

作为上述方案的改进，所述直行驱动装置包括与所述真空箱固定连接的主电机、与所述主电机连接并同步旋转的丝杆、套设于所述丝杆并与所述丝杆通过螺纹配合连接的丝杆螺母，所述丝杆螺母与所述移动小车固定连接。

作为上述方案的改进，所述直行驱动装置包括输出端与所述移动小车固定连接的气动伸缩缸或液压伸缩缸，所述气动伸缩缸或液压伸缩缸与所述真空箱固定连接。

作为上述方案的改进，所述升降驱动装置包括与所述真空箱固定连接的副电机、与所述副电机连接并同步旋转的滑键轴、可滑动地套设于所述滑键轴的环套体、与所述环套体连接的升降传动组件、与所述移动小车固定连接的环套轴承，所述升降传动组件与所述靶连接座连接，所述环套体安装于所述环套轴承。

作为上述方案的改进，所述升降传动组件包括与所述环套体通过齿啮合连接的水平过渡轴组件、与所述水平过渡轴组件通过齿啮合连接的水平传动齿轮、通过轴承可旋转地安装于所述移动小车的纵杆螺母、与所述纵杆螺母通过螺纹配合连接的纵向螺杆，所述纵向螺杆的一端与所述靶连接座固定连接，所述水平传动齿轮与纵杆螺母可同轴旋转地固定连接。

作为上述方案的改进，所述环套体外周面设有斜齿，所述水平过渡轴组件包括与所述环套体啮合的第一过渡齿轮、与所述第一过渡齿轮固定连接的过渡轴、与所述过渡轴连接并同步旋转的第二过渡齿轮、所述第二过渡齿轮与所述水平传动齿轮啮合。

作为上述方案的改进，所述升降传动组件包括与所述靶连接座固定连接的齿条，所述齿条与所述环套体通过齿啮合连接。

作为上述方案的改进，所述升降传动组件还包括与所述靶连接座固定连接的纵向导杆、套设于所述纵向导杆并安装于所述移动小车的导套。

作为上述方案的改进，所述磁控溅射镀膜设备还包括固设于所述真空箱内的支承导轨，所述移动小车通过滚轮安装于所述支承导轨。

本实用新型的有益效果是：将磁控溅射镀膜设备中的磁控溅射靶设为移动靶，创新性地采用“基片固定，阴极运动”的逆向设计理念，通过直行驱动装置推动移动小车在真空箱内作水平移动，同时在升降驱动装置的作用下推动靶连接座在纵向进行高度位置的调整，从而实现了磁控溅射靶的二维运动，而磁控溅射靶本身为长条形，可产生一维方向的溅射效果，从而实现磁控溅射的三维调节功能。因此可以通过计算机系统智能控制移动的磁控溅射靶，使特殊设计的阴极靶在高温的真空室内可根据大尺寸基片的曲线作水平、垂直方向二维变速仿形运动，实现对平板、浅弯、深弯、异型等不同形状基片镀膜，适合大尺寸、大曲率基片的镀膜要求，比一般镀膜设备可镀基片的形状范围更广。可移动的磁控溅射靶可针对基片的形状、曲率进行高度调节和水平推进速度控制，使得溅射距离稳定，可以放缓速度对局部进行针对性的强化溅射，使所镀制的薄膜具有高均匀性、高牢固度、高耐磨度等优点。

附图说明

图1是本实用新型中一种磁控溅射镀膜设备的实施例的平面结构示意图。

图2是本实用新型中一种磁控溅射镀膜设备的实施例的正向结构示意图。

图3是图2中A区域的局部放大图。

图4是本实用新型中一种磁控溅射镀膜设备的实施例的侧向放大局部结构示意图。

具体实施方式