[实用新型]一种TFT阵列基板、液晶面板及显示设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及液晶显示器的显影技术，尤其涉及一种薄膜晶体管(TFT，Thin Film Transistor)阵列基板、液晶面板以及显示设备。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD，Thin Film Transistor Liquid Crystal Display)具有体积小、功耗低、无辐射等特点，在当前的平板显示器市场占据了主导地位。一般的，液晶显示设备由液晶面板、驱动电路和背光源三部分组成，其中，液晶面板一般包括TFT阵列基板、彩膜基板以及填充其间的液晶。

TFT阵列基板一般包含三个制造过程：沉膜工艺、曝光工艺和刻蚀工艺。在曝光工艺中，TFT阵列基板(一般为同一块母板上的多个TFT阵列基板)分别经过清洗、涂胶、前烘、曝光、显影和后烘共六个工艺步骤，其中最为重要的是涂胶、曝光和显影三个工艺。当TFT阵列基板进入显影流程时，首先利用喷淋的方式在曝光结束后的TFT阵列基板上均匀喷洒显影液，然后在显影槽中等候一定的时间，使得显影液与光刻胶充分反应，紧接着将显影液从TFT阵列基板上去除掉再进入显影清洗单元，在显影清洗单元利用纯水冲洗显影后的TFT阵列基板，最后利用气刀将TFT阵列基板上的显影液吹干，结束显影流程。

TFT阵列基板，以传统的5mask为例，一般包括栅金属层、有源层、源漏金属层、钝化层、像素电极等膜层。上述每一个膜层的制造(指最终该膜层图案的形成)，都要经过如上所述的沉膜工艺、曝光工艺和刻蚀工艺等3个制造过程，因此，每一个膜层都要经过显影液去除这一工艺流程。

在TFT阵列基板生产过程中，一般是多个TFT阵列基板位于同一块玻璃母板上，同时进行制造流程，制造完成后进行切割处理形成独立的TFT阵列基板。如图1所示，一块母板1上包括8个TFT阵列基板2。在中小世代线上，如5代线以下的世代线上，在整个母板1的所有TFT阵列基板2上均匀喷洒显影液，在去除显影液时，一般采用将母板1一端升高倾斜的方式去除显影液，如图2所示，母板1按方向6升高倾斜后，显影液沿着方向4经光刻胶5流出，然而，此时显影液在TFT阵列基板上会产生一种非均匀的流向，这种非均匀的流向是由于显影液中添加剂产生的张力以及显影液中有机物的浓度不稳定产生的。该非均匀流向导致显影液浓度不均，最终会导致该TFT阵列基板上显影后的光刻胶5关键尺寸不均匀，从而使得最终产品的亮度显示不均匀，如图3所示，出现显影Mura 7。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的主要目的在于提供一种TFT阵列基板、液晶面板以及显示设备，能够让显影液在整个TFT阵列基板上的分布更加均匀，从而减小甚至避免玻璃基板在进行显影工艺时出现的显影Mura。

为达到上述目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：

本实用新型提供的一种TFT阵列基板，在TFT阵列基板中各膜层的周围具有调整显影液流动方式的图案。

上述方案中，所述调整显影液流动方式的图案的宽度为1～5mm。

上述方案中，所述调整显影液流动方式的图案为波浪状的图案、或密集的过孔图案、或斜纹图案。

上述方案中，所述TFT阵列基板中各膜层的周围具有不同形状的调整显影液流动方式的图案。

上述方案中，所述TFT阵列基板具体包括：

在栅金属层的周围具有波浪状的图案；

在过孔层的周围具有密集的过孔图案；

在像素电极层的周围具有斜纹图案。

上述方案中，所述TFT阵列基板中同一膜层的周围具有不同形状的调整显影液流动方式的图案。

上述方案中，所述TFT阵列基板的栅金属层的周围具有不同形状的调整显影液流动方式的图案。

本实用新型提供的一种液晶面板，包括上述的TFT阵列基板。

本实用新型提供的一种显示设备，包括所述的液晶面板。

本实用新型提供了一种TFT阵列基板、液晶面板以及显示设备，该TFT阵列基板中栅金属层等各膜层的周围具有调整显影液流动方式的图案；如此，使得显影工艺中去除显影液时，显影液流经该图案而改变流动方式，能够改善非均匀流向导致的显影液浓度不均的问题，保证在去除显影液时，显影液在整个TFT阵列基板的流动方向分布更加均匀，从而减小甚至避免TFT阵列基板在进行显影工艺时出现的显影Mura，提高了产品品质和良率。

附图说明

图1为现有技术中TFT阵列基板的结构示意图；

图2为现有技术中TFT阵列基板去除显影液的原理示意图；