[实用新型]OLED玻璃基片清洗设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种自动清洗工艺设备，更具体地涉及一种OLED玻璃基片清洗设备。

背景技术

随着各种半导体产品的广泛应用及半导体技术的发展，半导体产品的批量生产规模越来越大。同时半导体产品的尺寸也越来越大，导致半导体工艺日趋复杂。而产品的生产不仅要求高精度，也要求高效率及高自动化，因此，对生产半导体产品的生产设备和生产工艺也提出了更高的要求。对于半导体制品，例如有机发光显示器件、液晶显示器件、非晶硅太阳能电池板等，其生产都需要利用玻璃等作为基片，在基片上进行多种工序进而形成多层薄膜，工艺步骤中涉及的镀膜、光刻、蚀刻等工艺会产生粉尘附着在基片上，进而影响基片的清洁度，基片的清洁度对产品的质量有着重大影响。因此，在于镀膜、光刻及蚀刻等步骤中必须贯穿有清洗步骤，以维持基片在生产过程中的表面清洁度。

以OLED(Organic Light-Emitting Diode，即有机发光二极管)为例，OLED的制造一般都在玻璃基片上进行多次工艺步骤，进而在基片上相继沉积多层薄膜，其膜层主要包括在玻璃基片上形成的透明阳极，在阳极上依次沉积空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层，最后是金属阴极层；在上述各个工艺步骤中若基片上沉积有粉尘，在下一膜层的形成过程中会将其覆盖，从而影响膜层的厚度和均匀性，进而影响后续的工艺质量，最终使OLED的质量降低。可见所述基片的清洁起着举足轻重的作用，因此需要一种基片清洗装置，对所述基片进行高效清洗的同时也能保证所述基片的高清洁度。

现有用于清洁基片的装置具有长方形的流体喷射区，在该区域内相隔预定位置设置有多个喷射口，当运动的基片经过时，喷射口内喷射出清洗液进而对基片进行清洗。但是，这种清洁基片的装置只是对所述基片进行简单的流水线冲洗，清洗不够彻底。为解决上述问题，通常会另外增设清洗装置来进一步清洗所述基片，但这样便导致整个清洁装置的结构复杂，且增加了生产成本。

因此，急需一种结构简单、自动化程度高、清洁效率及清洁度高、清洗彻底的OLED玻璃基片清洗设备。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种OLED玻璃基片清洗设备，其结构简单、自动化程度高、清洁效率及清洁度高、清洗彻底。

为实现上述目的，本实用新型提供了一种OLED玻璃基片清洗设备，包括清洗机构、传输机构以及控制机构，所述控制机构控制所述清洗机构清洗OLED玻璃基片及控制所述传输机构传输OLED玻璃基片，所述传输机构形成一呈水平状的承载面，所述OLED玻璃基片承载于所述承载面上并被传输。其中，所述清洗机构包括依次排列的冲洗装置、风干装置以及烘干装置，所述冲洗装置、风干装置以及烘干装置依次对所述OLED玻璃基片进行洗刷、风干以及烘干，所述冲洗装置包括至少两组喷淋管组，所述喷淋管组包括呈对称设于所述承载面的上、下侧的喷淋管，所述喷淋管均匀设有朝向所述承载面的喷嘴，所述喷淋管相互连通且均与外界清洗液连通，位于同一侧的相邻的所述喷淋管之间设有滚刷，位于所述承载面的上、下侧的所述滚刷呈对称设置。

具体地，所述传输机构包括驱动装置、滚轮及固定架，所述滚轮均匀枢接于所述固定架的两侧并形成所述承载面，所述驱动装置驱动所述滚轮转动并带动所述OLED玻璃基片移动。

在本实用新型的一优选实施例中，所述OLED玻璃基片清洗设备还包括升降装置及放置于所述升降装置上的框架，所述控制机构与所述升降装置电连接并控制所述升降装置升降，所述升降装置对接于所述传输机构的输入端处，所述框架内呈层状的设置若干相互平行的供OLED玻璃基片放置的卡槽。

较佳地，所述OLED玻璃基片清洗设备还包括用于储存清洗液的水箱及与所述水箱连通的总水管，所述总水管分别与所述喷淋管连通。

较佳地，所述烘干装置为紫外发光装置。

具体地，所述风干装置包括至少两组吹风管组，所述吹风管组包括成对称设于所述承载面的上、下侧的吹风管，所述吹风管呈水平倾斜设置且均匀开设有气流孔，所述气流孔朝向所述承载面并与所述OLED玻璃基片呈锐角，所述吹风管与外界压缩空气装置连通。

较佳地，所述吹风管的横截面呈矩形，所述气流孔沿所述吹风管的轴向形成排状。