[实用新型]冷水脱胶机构无效
| 申请号: | 201120070318.9 | 申请日: | 2011-03-17 |
| 公开(公告)号: | CN201985078U | 公开(公告)日: | 2011-09-21 |
| 发明(设计)人: | 张保林 | 申请(专利权)人: | 重庆兰花太阳能电力股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 404000 *** | 国省代码: | 重庆;85 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 冷水 脱胶 机构 | ||
技术领域
本实用新型属于一种单晶硅片制作工艺中的脱胶装置,涉及一种冷水脱胶机构。
背景技术
在将单晶硅方锭送入切割机切割成单晶硅片之前,需要将方锭粘贴在晶托上,然后将晶托倒挂送入切割机。
当切割机把方锭切割成单晶硅片后的下一道工序,是要去除方锭与晶托之间的粘胶,使单晶硅片与晶托脱离,晶托可循环使用。
要使粘胶与单晶硅片脱离,可以采用热水或冷水浸泡,利用热胀冷缩的原理,实现粘胶与单晶硅片的自动脱离。
但现有技术的缺点是:采用热水或冷水浸泡的工序都比较繁琐,成本过高,且需要较大面积的水池,占用生产场地过多。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种结构简单,成本低,操作简便的冷水脱胶机构,能够简化粘胶与单晶硅片的脱离工序。
为达到上述目的,本实用新型提供一种冷水脱胶机构,其关键在于:由至少二台结构一致的冷水喷淋器组成,每台所述冷水喷淋器设置有左站架和右站架,所述左站架上固定有左水管,所述右站架上固定有右水管,所述左水管和右水管相互平行,且所述左水管上开有一列朝右的喷水孔,所述右水管上开有一列朝左的喷水孔。
只需将粘胶与单晶硅片放置在左水管和右水管的喷水孔下,左水管和右水管向粘胶与单晶硅片喷淋冷水,进行快速的冷却降温,就可以实现粘胶与单晶硅片的脱落。
所述左水管和右水管连接在同一支水管上,该支水管上安装有开关;通过开关可以调节水的出水量和喷射角度。
所述各冷水喷淋器中的支水管连接在同一总水管中。
所述各冷水喷淋器中的左站架和右站架安装在同一平台上;
可根据晶托和单晶硅片的尺寸,在左站架和右站架之间的平台上放置相应尺寸的单晶硅片托盘。
所述平台下方设置有引流槽,所述引流槽中的水经水泵引入水槽,所述总水管中与该水槽相通。
冷水经水泵抽回,可以直接回收,再次利用,降低了成本。
本实用新型的显著效果是:提供了一种结构简单,成本低,操作简便的冷水脱胶机构,简化了粘胶与单晶硅片的脱离工序。
附图说明
图1是冷水喷淋器的结构示意图;
图2是本实用新型出胶口的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步详细说明。
如图1、2所示,一种冷水脱胶机构,由至少二台结构一致的冷水喷淋器组成,每台所述冷水喷淋器设置有左站架1和右站架2,所述左站架1上固定有左水管3,所述右站架2上固定有右水管4,所述左水管3和右水管4相互平行,且所述左水管3上开有一列朝右的喷水孔,所述右水管4上开有一列朝左的喷水孔。
所述左水管3和右水管4连接在同一支水管5上,该支水管5上安装有开关6;
所述各冷水喷淋器中的支水管5连接在同一总水管中7。
所述各冷水喷淋器中的左站架1和右站架2安装在同一平台上;
所述平台下方设置有引流槽8,所述引流槽8中的水经水泵9引入水槽10,所述总水管中7与该水槽10相通。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





