[发明专利]平板式光刻板

说明书

技术领域

本发明涉及一种LED制程中的设备。

背景技术

光刻掩模板一般用石英玻璃作为基体，采用石英是由于其优良的近紫外透过率。掩模板挡光部分用铬（Cr），所以有时也叫铬板。现有技术是在石英上镀铬，再将铬刻制成相应的版图得到的。这种光刻板在使用过程中，尤其是接触式的使用过程中容易受到损坏，从而造成掩模图形的失真。

发明内容

本发明的目的是实现通过将铬填入到石英材料内来制作掩模图形，减少光刻板在重复使用过程中的图形失真。

为了达到上述技术目的，本发明提供了一种平板式光刻板，它包括石英基板，所述的石英基板的上表面的预定位置蚀刻有凹槽，所述的凹槽内填充有铬，所述的铬与石英基板的上表面相平齐。

优选地，所述的凹槽底部制作有掩模图形。

优选地，填充在所述的凹槽内的铬的上表面或者下表面制作有掩模图形。

由于采用上述技术方案，可以在石英的一个表面制作出所需的图形，然后再其上镀铬，再将表面多余的铬通过CMP的方式去除，减少了光刻板在重复使用过程中的图形失真。

附图说明

附图1为根据本发明的平板式光刻板的结构示意图；

附图2为根据本发明的平板式光刻板的生产加工流程示意图；

附图3为根据本发明的平板式光刻板的工作原理示意图；

附图4为根据本发明的平板式光刻板的工作原理示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。

附图1为根据本发明的平板式光刻板的结构示意图；附图2为根据本发明的平板式光刻板的生产加工流程示意图；附图3为根据本发明的平板式光刻板的工作原理示意图；附图4为根据本发明的平板式光刻板的工作原理示意图。

如附图1所示，本实施例中的平板式光刻板，它包括石英基板1，石英基板1的上表面的预定位置蚀刻有凹槽2，凹槽2内填充有铬3，铬3与石英基板1的上表面相平齐，凹槽2底部制作有掩模图形。

如附图2所示，首先在石英基板1的上表面的预定位置通过化学蚀刻的方式开出凹槽2，并在凹槽2底部制作掩模图形；之后在所述的凹槽2以及石英基板1的上表面镀一层铬3；最后再将表面多余的铬通过CMP的方式去除。作为一种其它的选择方式，也可以是填充在凹槽2内的铬3的上表面或者下表面制作有掩模图形。

如附图3与附图4所示，当曝光机进行曝光时，印有掩模图形的位置部分由于铬3阻止光线的通过，其余部分则顺利通过石英基板1达到光刻胶从而对光刻胶进行蚀刻。 由于石英基板1与铬3位于同一平面内，并且凹槽2底部制作有掩模图形，在接触的过程中避免了受到损坏，保证了掩模图形的长期有效。

以上实施方式只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人了解本发明的内容并加以实施，并不能以此限制本发明的保护范围，凡根据本发明精神实质所做的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围内。