[发明专利]一种低化学处理紫激光光聚合型平版印刷版

说明书

技术领域

本发明涉及一种在铝版基上形成的低化学处理紫激光光聚合型感光平版印刷版，具体的说是涉及一种可以用紫激光直接制版的低化学处理光聚合型平版印刷版。

背景技术

近年来随着计算机和半导体激光技术的发展，感光性高分子材料作为激光成像材料被广泛地研究和应用。平版印刷技术已从传统的激光照排胶片拷贝PS版技术全面走向计算机直接制版技术（简称CTP技术），CTP版材也逐渐普及。CTP版材种类很多，比较普及的包括银盐扩散CTP版材、UV-CTP版、紫激光聚合CTP版材、热敏CTP版材等。

所谓的光聚合是指在光的作用下，使单体发生聚合的方法。光引发聚合分直接光引发聚合和光敏聚合两种。前者，在光的作用下，光引发剂在激发态生成活性种子（自由基或阳离子），引发单体聚合；后者光敏剂首先吸收光然后与光引发剂作用产生活性种子引发单体聚合，因而可根据光敏剂的吸收光谱，实现所需的感光范围例如红外光830nm、绿光532nm、蓝光488nm以及兰紫光405nm。

对于可激光成像的光聚合型平版印刷版，曝光时，感光层中的增感染料（光敏剂）吸收能量，分子从基态跃迁至激发态，通过能量转移或电子转移使引发剂分解产生自由基，引发感光层中的活性物质（含双键化合物）发生聚合反应。经激光曝光的区域发生聚合反应而固化，在显影液中由溶解变为不溶，形成图文区；未曝光区域经显影加工后被除去，形成印版空白区。通常在具有PH＞10的强碱性显影液中处理经曝光的印版，PH＞10的显影液碱性较强，在使用过程中对机器有较强的腐蚀，使用后的废液排放对环境的污染也相对严重。

发明内容

本发明的目的就在于解决现有技术中存在的上述技术问题，提供一种低化学处理紫激光光聚合型平版印刷版，可使版材拥有较高的耐印率和好的显影性能，可采用PH<10的显影液处理经曝光的印版。

为实现上述发明目的，本发明采用的技术方案如下：

本发明的低化学处理光聚合型平版印刷版，所述光聚合型平版印刷版本体中包括有支持体，在支持体之上为光聚合型感光层，在光聚合型感光层之上附有水性保护层，在光聚合型感光层中包含有一种纳微米颗粒，它是一种以乳液离散形态存在的高分子聚合颗粒，所述的纳微米颗粒是含有如下结构单元的乙烯基多元共聚物：

A：苯乙烯结构单元；

B：(甲基)丙烯腈结构单元；

C：氨酯化聚醚自乳化结构单元；

式中，R1为氢原子或甲基，R2为酯基、苯撑基或碳碳单键，r为1-3的整数；n为9-140的整数；

D：丙烯酰胺亲水衍生物结构单元。

式中，R³为氢原子或甲基，R⁴为羟基或磺酰胺基。

所述乙烯基多元共聚物纳微米颗粒的重均分子量为20000-150000；玻璃化转化温度为30-260℃；颗粒直径为15-300nm，苯乙烯共聚单元A在共聚物中的重量百分比含量为30%-80%；(甲基)丙烯腈共聚单元B在共聚物中的重量百分比含量为0.5%-40%；氨酯化聚醚自乳化结构单元C在共聚物中的重量百分比含量为0.5%-40%；丙烯酰胺亲水衍生物结构单元D在共聚物中的重量百分比含量为0.5%-40%。

所述乙烯基多元共聚物纳微米颗粒的重均分子量优选为35000-120000；玻璃化转化温度优选为40-220℃；颗粒直径优选为35-250nm，苯乙烯共聚单元A在共聚物中的重量百分比含量优选为40%-70%；(甲基)丙烯腈共聚单元B在共聚物中的重量百分比含量优选为5%-30%；氨酯化聚醚自乳化结构单元C在共聚物中的重量百分比含量优选为5%-30%；丙烯酰胺亲水衍生物结构单元D在共聚物中的重量百分比含量优选为5%-50%。

所述乙烯基多元共聚物纳微米颗粒的重均分子量最优选为50000-100000；玻璃化转化温度最优选为60-180℃；颗粒直径最优选为55-200nm，苯乙烯共聚单元A在共聚物中的重量百分比含量最优选为50%-60%；(甲基)丙烯腈共聚单元B在共聚物中的重量百分比含量最优选为10%-20%；氨酯化聚醚自乳化结构单元C在共聚物中的重量百分比含量最优选为10%-20%；丙烯酰胺亲水衍生物结构单元D在共聚物中的重量百分比含量最优选为10%-20%。