[发明专利]一种基于组织点半遮盖技术的提花织物设计方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种经、纬线交织织物的设计方法，特别是数码提花织物的设计方法。

背景技术

数码设计条件下分层组合设计模式的提出与实践，使提花织物设计超越了传统提花织物设计的诸多限制。分层组合设计模式下的组合结构效果基本可以分为全遮盖、部分遮盖和不遮盖三种，其中全遮盖结构设计方法为传统设计方法；全部不遮盖的设计技术已经公布；部分遮盖是分层组合设计模式下变化形式最丰富的结构类型。而有规律的半遮盖效果没有在任何文献中检索到。

发明内容

本发明以分层组合设计模式为前提，提出一种基于半遮盖结构设计的提花织物设计方法，其特征在于设计的提花织物的组合结构中的半数组织点处于相互遮盖的状态，即组合结构中的任一纬纱线都只和相邻的上下两纬中的一纬发生遮盖关系。主要设计步骤是：(1)计算机数码图像设计，(2)半遮盖组织结构设计，(3)组织替换，合并形成织物组合结构图，(4)织物组合结构图生产应用。

本发明的实现方法和主要技术步骤和内容为：

(1)计算机数码图像设计

利用计算机图像处理方法设计数码图像，数码图像题材不限，数目为2或4，数码图像的规格相同，将计算机数码图像去色后得到灰度图像，

(2)半遮盖组织结构设计

①选择一个基本组织A，基本组织选择范围为原组织中的斜纹或缎纹，经、纬组织循环数相同为N，N在5到48之间，将A上移一纬形成基本组织B，

②对A设定半遮盖技术点，首先将A的组织点反转，然后将每一纬的纬组织点向上、向下各沿经向加强1，同时再将原来这个纬组织点反转。在不破坏半遮盖技术点的情况下设计一组影光组织，称之为基础组织，

③对B设定半遮盖技术点，首先将B的组织点反转，然后将每一纬的纬组织点向上、向下各沿经向加强1，同时再将原来这个纬组织点反转。在不破坏半遮盖技术点的情况下设计一组影光组织，称之为配合组织，

④将基础组织中每个组织的奇偶纬进行分离，得到基础组织一和基础组织二，

⑤将配合组织中每个组织的奇偶纬进行分离，得到配合组织一和配合组织二，

(3)组织替换，合并形成织物组合结构图

根据设计效果，分别对偶数个灰度图进行有效的色阶数选择，各图的灰度级别不超过基础组织和配合组织的组织数目，确定灰度图像中黑到白与基础组织和配合组织中的纬面到经面组织的替代关系，并保持不变，

①当灰度图数目为2时，将奇数层灰度图对应基础组织，进行灰度与组织的一一替代，形成对应的奇数层单层结构图，将偶数层灰度图对应配合组织，进行灰度与组织的一一替代，形成对应的偶数层单层结构图，

②当灰度图数目为4时，将奇数层灰度图依次对应基础组织一和基础组织二，进行灰度与组织的一一替代，形成对应的奇数层单层结构图，将偶数层灰度图依次对应配合组织一和配合组织二，进行灰度与组织的一一替代，形成对应的偶数层单层结构图，

③将奇数层单层结构图和偶数层单层结构图按相同起始位置沿纬向1∶1进行组合，得到半遮盖提花织物组合结构图。

(4)织物组合结构图生产应用

将半遮盖提花织物组合结构图加上选纬信息，选择一组丝线做经线，选择与单层结构图层数相同的偶数组丝线做纬线，该织物组合结构图直接用于生产多组纬半遮盖效果的提花织物。

利用本发明提出的组织点半遮盖设计方法，会使织物中的任意两层的组织发生随机遮盖，由于纬纱之间发生复杂的随机遮盖，使织物表现出与原数码图像完全不一样的色彩效果，仅从织物面料难以正确分析出原数码图像的色彩效果及组织结构设计方法，从而从技术上完全杜绝了复制和盗版。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明

图1基本组织A、B和各自的半遮盖技术点的设计示意图；

图2以基本组织A为基础的最少数目基础组织示意图(一次加强组织点为组织循环数)；

图3以基本组织B为基础的最少数目配合组织示意图(一次加强组织点为组织循环数)；

图4以基本组织A为基础的影光效果基础组织示意图(一次加强组织点为6)；

图5以基本组织B为基础的影光效果配合组织示意图(一次加强组织点为6)；

图6由基础组织奇数纬组合成的基础组织一；

图7由基础组织偶数纬组合成的基础组织二；

图8由配合组织奇数纬组合成的配合组织一；

图9由配合组织偶数纬组合成的配合组织二；

图10半遮盖效果检验图；