[发明专利]一种基于组织点半遮盖技术的提花织物设计方法

权利要求书

1.一种基于组织点半遮盖技术的提花织物设计方法，其特征在于设计的提花织物的组合结构中的半数组织点处于相互遮盖的状态，主要步骤是：(1)计算机数码图像设计，(2)半遮盖组织结构设计，(3)组织替换，合并形成织物组合结构图，(4)织物组合结构图生产应用，其中：

(1)计算机数码图像设计

利用计算机图像处理方法设计数码图像，数码图像题材不限，数目为2或4，数码图像的规格相同，将计算机数码图像去色后得到灰度图像，

(2)半遮盖组织结构设计

①选择一个基本组织A，基本组织选择范围为原组织中的斜纹或缎纹，经、纬组织循环数相同为N，N在5到48之间，将A上移一纬形成基本组织B，

②对A设定半遮盖技术点，首先将A的组织点反转，然后将每一纬的纬组织点向上、向下各沿经向加强1，同时再将原来这个纬组织点反转，在不破坏半遮盖技术点的情况下设计一组影光组织，称之为基础组织，

③对B设定半遮盖技术点，首先将B的组织点反转，然后将每一纬的纬组织点向上、向下各沿经向加强1，同时再将原来这个纬组织点反转，在不破坏半遮盖技术点的情况下设计一组影光组织，称之为配合组织，

④将基础组织中每个组织的奇偶纬进行分离，得到基础组织一和基础组织二，

⑤将配合组织中每个组织的奇偶纬进行分离，得到配合组织一和配合组织二，

(3)组织替换，合并形成织物组合结构图

根据设计效果，分别对偶数个灰度图进行有效的色阶数选择，各图的灰度级别不超过基础组织和配合组织的组织数目，确定灰度图像中黑到白与基础组织和配合组织中的纬面到经面组织的替代关系，并保持不变，

①当灰度图数目为2时，将奇数层灰度图对应基础组织，进行灰度与组织的一一替代，形成对应的奇数层单层结构图，将偶数层灰度图对应配合组织，进行灰度与组织的一一替代，形成对应的偶数层单层结构图，

②当灰度图数目为4时，将奇数层灰度图依次对应基础组织一和基础组织二，进行灰度与组织的一一替代，形成对应的奇数层单层结构图，将偶数层灰度图依次对应配合组织一和配合组织二，进行灰度与组织的一一替代，形成对应的偶数层单层结构图，

③将奇数层单层结构图和偶数层单层结构图按相同起始位置沿纬向1∶1进行组合，得到半遮盖提花织物组合结构图，

(4)织物组合结构图生产应用

将半遮盖提花织物组合结构图加上选纬信息，选择一组丝线做经线，选择与单层结构图层数相同的偶数组丝线做纬线，该织物组合结构图直接用于生产多组纬半遮盖效果的提花织物。