[发明专利]使用硅通孔的天线有效

专利信息
申请号: 201110424041.X 申请日: 2011-12-13
公开(公告)号: CN102800961A 公开(公告)日: 2012-11-28
发明(设计)人: 颜孝璁;吕哲庆;林佑霖;郭晋玮;郑敏祺 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01Q1/48 分类号: H01Q1/48;H01Q1/36
代理公司: 北京德恒律师事务所 11306 代理人: 陆鑫;房岭梅
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 使用 硅通孔 天线
【权利要求书】:

1.一种天线,包括:

基板;

顶板,位于所述基板的上方;

至少一条馈线,连接至所述顶板,每条馈线包括:穿过所述基板的第一硅通孔TSV结构;以及

至少一条地线,连接至所述顶板,每条地线包括:穿过所述基板的第二硅通孔TSV结构,

其中,所述顶板为电导体,所述至少一条馈线被配置为传送射频信号,并且所述至少一条地线被配置为接地。

2.根据权利要求1所述的天线,其中,所述顶板包括多个金属层。

3.根据权利要求1所述的天线,进一步包括:接地板,位于所述基板的下方,其中,所述接地板为电导体,并且连接至所述至少一条地线,

以及其中,所述接地板包括多个金属层。

4.根据权利要求1所述的天线,其中,所述至少一条地线被设置在所述顶板的边缘。

5.根据权利要求1所述的天线,其中,所述至少一条地线被设置为与所述顶板的中心邻近。

6.根据权利要求1所述的天线,其中,在使用所述第一TSV结构的3维封装中,所述至少一条馈线连接至堆叠在所述基板的下方的另一管芯。

7.一种实施天线的方法,包括:

穿过基板为所述天线的馈线形成第一硅通孔TSV;

穿过所述基板为所述天线的地线形成第二硅通孔TSV;以及

在所述基板的上方形成所述天线的顶板,其中,所述顶板为电导体,并且连接至所述第一TSV和所述第二TSV。

8.根据权利要求7所述的方法,进一步包括:在形成所述顶板以前,在所述基板的上方形成隔离层。

9.根据权利要求7所述的方法,进一步包括:在所述基板的下方形成所述天线的接地板,其中,所述接地板为电导体,并且连接至所述第二TSV,

所述方法进一步包括:在形成所述接地板以前,在所述基板的下方形成隔离层。

10.一种天线,包括:

基板;

顶板,位于所述基板的上方;

接地板,位于所述基板的下方;

至少一条馈线,连接至所述顶板,每条馈线包括:穿过所述基板的第一硅通孔TSV结构;以及

至少一条地线,连接至所述顶板,每条地线包括:穿过所述基板的第二硅通孔TSV结构,

其中,所述顶板为电导体,所述至少一条馈线被配置为传送射频信号,在使用所述第一TSV结构的3维封装中,所述至少一条馈线连接至堆叠在所述基板的下方的另一管芯,以及所述至少一条地线被配置为连接至所述接地板。

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