[发明专利]一种氧化镍电致变色薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种氧化镍电致变色薄膜，其特征在于，为NiO纳米线阵列薄膜，其中，所述NiO纳米线的直径为5～100nm，长度为50nm～5μm。

2.如权利要求1所述的氧化镍电致变色薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将聚甲基丙烯酸甲酯-b-聚苯乙烯和聚甲基丙烯酸甲酯溶解于甲苯形成聚合物总质量百分比为0.5～20％的溶液，其中，聚甲基丙烯酸甲酯的质量为聚甲基丙烯酸甲酯-b-聚苯乙烯的质量的1～50％；

(2)将步骤(1)得到的溶液旋涂到清洗过的ITO玻璃上，旋涂速度为300～1000rpm，旋涂时间为10～120s；旋涂完成后，将ITO玻璃转移至处于室温下饱和丙酮气氛的密闭容器中保持1～5小时，取出后在空气中再放置1～5小时，之后浸入醋酸溶液1～10min，再去离子水洗，在ITO玻璃上获得聚甲基丙烯酸甲酯-b-聚苯乙烯纳米多孔模板；

(3)以ITO/聚甲基丙烯酸甲酯-b-聚苯乙烯纳米多孔模板为工作电极，Pt电极为对电极，Ag/AgCl为参比电极，由0.1～2摩尔/升的Ni(NO₃)₂和0.01～0.2摩尔/升的NaNO₃组成的水溶液为电解液，在0.2～2mA cm^-2的恒定电流下，通过阴极电沉积法在所述工作电极上生长前驱物Ni(OH)₂纳米线阵列；电沉积120～1200s后，将所述工作电极取出，经去离子水清洗干净后置于甲苯溶液溶解去除聚甲基丙烯酸甲酯-b-聚苯乙烯模板，在ITO玻璃上得到前驱物Ni(OH)₂纳米线阵列；

(4)将步骤(3)得到的有前驱物Ni(OH)₂纳米线阵列的ITO玻璃在空气气氛下在300～400℃煅烧1～3小时，在ITO玻璃上得到NiO纳米线阵列薄膜。

3.如权利要求2所述的氧化镍电致变色薄膜的制备方法，其特征在于，所述的清洗过的ITO玻璃，是通过以下步骤得到的：将ITO玻璃首先用氯仿清洗30分钟，然后用体积比为1∶1的异丙醇和丙酮的混合溶液超声波清洗，再用无水乙醇超声波清洗，最后去离子水清洗干净，干燥。

4.如权利要求2所述的氧化镍电致变色薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，电沉积的时间为900s。

5.如权利要求2所述的氧化镍电致变色薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(4)中，煅烧条件为在350℃煅烧2小时。