[发明专利]玻璃基板的清洗装置及清洗方法

说明书

技术领域

本发明涉及基板清洗领域，特别是涉及一种高效、低成本的玻璃基板的清洗装置及清洗方法。

背景技术

在当前液晶显示领域中，用于制作液晶显示面板的玻璃基板的清洗方面，对于不同粒径的颗粒是采用不同的清洗技术，一般采用等离子体清洗(Plasma)来清除玻璃基板上的有机物残留，采用毛刷喷淋(brush+shower)来清除玻璃基板上粒径为10微米以上的颗粒，采用压力喷射来清除玻璃基板上粒径为1-10微米的颗粒，采用双流体喷射来清除玻璃基板上粒径为1-5微米的颗粒。

但是随着液晶显示面板的大尺寸、高开口率以及低线宽的发展要求，为了避免断线、短路等缺陷的产生，对玻璃基板的清洗技术的要求越来越高。而目前的玻璃基板的清洗装置存在以下的不足：

1、针对不同粒径的颗粒采用不同的清洗机台，造成了机台的高成本投入，并在各种机台的转换过程中会浪费较多的工时且易引入新的颗粒；

2、目前清洗机台的清洗原理主要为物理冲击，对于尺寸较小并顽固附着的颗粒的清洗效果并不明显，且对清洗需要使用的蒸馏水和添加溶剂消耗较大。

针对以上清洗装置的不足，又开发了采用超声波清洗技术来清除玻璃基板表面的颗粒，也即是在清洗液中使用超声波对玻璃基板进行清洗。相对于原有清洗装置的物理冲击的清洗原理，超声波清洗技术利用了空蚀作用，空蚀作用是指利用清洗液中的微型气泡的内爆裂进行玻璃基板表面的清洗。其中微型气泡的内爆裂是由于清洗液中的液体的压力变化导致的，当液体处于负压状态时，液体的沸点会降低，从而产生许多小气泡；当液体处于正压状态时，小气泡就会发生猛烈的内爆裂，因此空蚀现象使清洗液产生了搅拌和洗涤作用，这样可以较好的清洗玻璃基板的表面。但采用超声波对玻璃基板表面进行清洗时，超声波频率发生器的振子发出的超声波容易在清洗液中产生驻波等相干效应而影响超声波对玻璃基板表面的清洗。

故，有必要提供一种高效、低成本的玻璃基板的清洗装置及清洗方法，以解决现有技术所存在的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种高效、低成本的玻璃基板的超声波清洗装置及清洗方法，以解决现有的玻璃基板的清洗装置及清洗方法成本较高、清洗效果差的技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明涉及一种玻璃基板的清洗装置，包括清洗槽，其中所述清洗装置包括用于发出第一频率的超声波的第一频率发生器和用于发出第二频率的超声波的第二频率发生器；所述第一频率发生器与所述第二频率发生器设置在所述清洗槽的两侧。

在本发明所述的玻璃基板的清洗装置中，所述第一频率的范围为40-70千赫兹，所述第二频率的范围为120-170千赫兹。

在本发明所述的玻璃基板的清洗装置中，所述第一频率发生器与所述第二频率发生器均具有振子，所述振子露出于所述清洗槽的内壁，且所述第一频率发生器的振子和所述第二频率发生器的振子成行间隔分布。

在本发明所述的玻璃基板的清洗装置中，所述第一频率发生器与所述第二频率发生器的相邻振子的间隔为15-50厘米。

在本发明所述的玻璃基板的清洗装置中，所述玻璃基板的清洗装置还包括基板放置支架，所述基板放置支架置于所述清洗槽中，用于放置待清洗基板，使所述待清洗基板与所述清洗槽的底部平面的夹角为30-45度。

在本发明所述的玻璃基板的清洗装置中，所述基板放置支架包括用于与所述清洗槽的底部接触的底部支撑架以及至少一个用于倾斜放置所述待清洗基板的倾斜支撑架，所述底部支撑架所在平面与所述倾斜支撑架所在平面之间的夹角为30-45度。

本发明还涉及一种玻璃基板的清洗方法，其中包括步骤：A、将待清洗基板放置到清洗槽中的基板放置支架上；B、在所述清洗槽中注入清洗液并使所述清洗液覆盖所述待清洗基板；C、在所述清洗槽中同时发出第一频率的超声波和第二频率的超声波对所述待清洗基板进行超声波清洗。

在本发明所述的玻璃基板的清洗方法中，所述步骤A之前还包括步骤：在所述清洗槽的两侧设置用于发出第一频率的超声波的第一频率发生器以及用于发出第二频率的超声波的第二频率发生器，所述第一频率发生器的振子和所述第二频率发生器的振子成行间隔分布，所述第一频率发生器与所述第二频率发生器的相邻振子的间隔为15-50厘米。

在本发明所述的玻璃基板的清洗方法中，所述步骤A具体为：将基板放置支架置于所述清洗槽中，随后将所述待清洗基板放置到所述清洗槽中的所述基板放置支架上使所述待清洗基板与所述清洗槽的底部平面的夹角为30-45度。