[发明专利]玻璃基板的清洗装置及清洗方法

权利要求书

1.一种玻璃基板的清洗装置，包括清洗槽，其特征在于，所述清洗装置包括：

用于发出第一频率的超声波的第一频率发生器；以及

用于发出第二频率的超声波的第二频率发生器；

所述第一频率发生器与所述第二频率发生器设置在所述清洗槽的两侧。

2.根据权利要求1所述的玻璃基板的清洗装置，其特征在于，所述第一频率的范围为40-70千赫兹，所述第二频率的范围为120-170千赫兹。

3.根据权利要求1所述的玻璃基板的清洗装置，其特征在于，所述第一频率发生器与所述第二频率发生器均具有振子，所述振子露出于所述清洗槽的内壁，且所述第一频率发生器的振子和所述第二频率发生器的振子成行间隔分布。

4.根据权利要求3所述的玻璃基板的清洗装置，其特征在于，所述第一频率发生器与所述第二频率发生器的相邻振子的间隔为15-50厘米。

5.根据权利要求1所述的玻璃基板的清洗装置，其特征在于，所述玻璃基板的清洗装置还包括基板放置支架，所述基板放置支架置于所述清洗槽中，用于放置待清洗基板，使所述待清洗基板与所述清洗槽的底部平面的夹角为30-45度。

6.根据权利要求5所述的玻璃基板的清洗装置，其特征在于，所述基板放置支架包括用于与所述清洗槽的底部接触的底部支撑架以及至少一个用于倾斜放置所述待清洗基板的倾斜支撑架，所述底部支撑架所在平面与所述倾斜支撑架所在平面之间的夹角为30-45度。

7.一种玻璃基板的清洗方法，其特征在于，包括步骤：

A、将待清洗基板放置到清洗槽中；

B、在所述清洗槽中注入清洗液并使所述清洗液覆盖所述待清洗基板；

C、在所述清洗槽中同时发出第一频率的超声波和第二频率的超声波对所述待清洗基板进行超声波清洗。

8.根据权利要求7所述的玻璃基板的清洗方法，其特征在于，所述步骤A之前还包括步骤：

在所述清洗槽的两侧设置用于发出第一频率的超声波的第一频率发生器以及用于发出第二频率的超声波的第二频率发生器，所述第一频率发生器的振子和所述第二频率发生器的振子成行间隔分布，所述第一频率发生器与所述第二频率发生器的相邻振子的间隔为15-50厘米。

9.根据权利要求7所述的玻璃基板的清洗方法，其特征在于，所述步骤A具体为：将基板放置支架置于所述清洗槽中，随后将所述待清洗基板放置到所述清洗槽中的所述基板放置支架上使所述待清洗基板与所述清洗槽的底部平面的夹角为30-45度。

10.根据权利要求7所述的玻璃基板的清洗方法，其特征在于，所述步骤C的清洗时间为200-280秒。