[发明专利]取向膜修复系统

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示装置的制造工艺，特别是涉及LCD用取向膜的修复工艺。

背景技术

参阅图1及图2，在一般液晶面板中，与液晶接触的TFT/CF基板110上分别涂布有一层取向膜120，该取向膜120可用于限制液晶分子的取向状态。

在取向膜120涂布的过程中，由于TFT/CF基板110表面的微粒(Particle)130使TFT/CF基板110表面改性不足，配向液(PI液)对TFT/CF基板110表面的贴合性差；TFT/CF基板110表面的凹凸不平影响了配向液(PI液)在TFT/CF基板110上的扩散等原因，使取向膜120上产生微粒暗点，而去除微粒(Particle)130所形成的针孔(Pin hole)140(如图2所示)，在取向膜120固烤成膜后，因为在针孔140的部位不能正常地显示图像，以往必须将取向膜120全部剥离后，才能重新进行成膜。

由于取向膜120在剥离的时候要使用大量的剥离液，而完成取向膜120剥离后的TFT/CF基板110需要经过清洗、干燥、取向液涂布、预烘烤、检查、本硬化等一系列制程重新成膜，因此会增加额外的生产成本。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于克服上述现有技术的不足，而提出一种取向膜修复系统可以定点修复在取向膜涂布时产生的微粒暗点及去除微粒后的局部的针孔，免去取向膜剥离和清洗、干燥、取向液涂布、预烘烤、检查、本硬化等一系列制程重新成膜，从而达到降低制造成本的目的。

本发明解决上述技术问题采用的技术方案包括，提出一种取向膜修复系统，包括：一检查装置、一取向膜缺陷去除装置及一取向膜修复剂涂布装置。检查装置包括一电荷耦合元件(CCD)及一缺陷位置检测电路，电荷耦合元件检测在TFT/CF基板上的一取向膜的一缺陷位置，缺陷位置检测电路则记录对应该缺陷位置的一位置坐标信号，取向膜缺陷去除装置是根据位置坐标信号，去除在TFT/CF基板上的缺陷位置上的缺陷，以形成一针孔，取向膜修复剂涂布装置根据位置坐标信号，将一取向膜修复剂涂布在针孔上，对针孔进行修复。

在本发明的一实施例中，上述的缺陷为包覆有微粒的取向膜。

在本发明的一实施例中，上述的针孔是指去除缺陷后于取向膜上所形成的缺口。

在本发明的一实施例中，上述的取向膜缺陷去除装置为一等离子体(AP Plasma)装置。

在本发明的一实施例中，上述的取向膜修复剂涂布装置为一喷印装置(Inkjet)。

在本发明的一实施例中，上述的喷印装置将取向膜修复剂涂布在针孔上时，是依据针孔的面积、取向膜修复剂的固含量以及目标膜厚为100nm，从而计算出喷印装置的滴下量。

在本发明的一实施例中，上述取向膜修复系统还包括一驱动电路。驱动电路控制取向膜缺陷去除装置及取向膜修复剂涂布装置的移动，其作用为接收缺陷位置检测电路检测到的位置坐标信号，将取向膜缺陷去除装置及取向膜修复剂涂布装置移动至缺陷位置上方，以去除在TFT/CF基板上的缺陷位置上的取向膜和微粒。

在本发明的一实施例中，上述取向膜缺陷去除装置更是对取向膜上的针孔缺陷进行改性，改善针孔缺陷产生区域基板表面的贴合性。

与现有技术相比，本发明透过取向膜缺陷去除装置去除微粒暗点(Particle mura)位置上的取向膜和微粒(Particle)，形成针孔(Pin hole)。或者用等离子体(AP Plasma)装置对取向膜上的针孔(Pin hole)缺陷进行改性，改善针孔(Pin hole)缺陷产生区域基板表面的贴合性，并通过喷印装置(Inkjet)使取向膜修复剂涂布在针孔(Pin hole)上，对针孔(Pin hole)进行修复。可避免如现有技术中，每当取向膜上产生缺陷时，都需要重新成膜，既耗时又耗费成本的缺失。

附图说明

图1为现有的TFT-LCD用液晶取向膜的涂布工艺示意图。

图2为现有的TFT-LCD用液晶取向膜的缺陷示意图。

图3为本发明的取向膜修复系统元件方块示意图。

图4为采用图3的取向膜修复系统示意图。

图5为本发明的电荷耦合元件检测在TFT/CF基板上的一取向膜的一缺陷位置的示意图。

图6为本发明的取向膜缺陷去除装置除在TFT/CF基板上缺陷的效果示意图。

图7为本发明的取向膜修复剂涂布装置将取向膜修复剂涂布在针孔的状态示意图。

图8为本发明的取向膜修复剂涂布在针孔的效果示意图。

具体实施方式