[发明专利]光刻胶回收系统

权利要求书

1.一种光刻胶回收系统，包括基板底盘及其上盖、位于基板底盘上的基板旋转盘、位于基板旋转盘上用于放置基板的基板卡槽以及用于接收基板旋转盘旋转过程中从基板上甩出的光刻胶的甩胶储槽，所述基板底盘的上盖在基板旋转盘旋转过程中处于关闭状态，能够遮盖基板以及甩胶储槽，其特征在于，所述光刻胶回收系统还包括：

与所述甩胶储槽相连接的过滤装置，通过设置有阀门的管道与所述甩胶储槽连通，用于对从所述甩胶储槽流出并通过所述管道流入的光刻胶进行过滤；

清洗装置，用于对所述甩胶储槽进行清洗；

控制装置，用于在光刻胶回收阶段控制所述阀门导通，并控制所述清洗装置停止清洗甩胶储槽；在清洗阶段控制所述阀门关闭，并控制所述清洗装置清洗甩胶储槽。

2.根据权利要求1所述的光刻胶回收系统，其特征在于，所述系统还包括：

设置于所述基板底盘上的保护装置，用于在所述基板底盘的上盖打开时，将甩胶储槽中的光刻胶与空气隔绝，以避免光刻胶受到空气中粒子的污染。

3.根据权利要求2所述的光刻胶回收系统，其特征在于，所述保护装置包括：

设置在所述基板底盘的外边缘上的伸缩层；

设置在所述基板底盘上、控制所述伸缩层伸缩的第一控制器，用于在所述基板底盘的上盖打开时，控制所述伸缩层伸出遮盖住所述甩胶储槽；在所述基板底盘的上盖关闭时，控制所述伸缩层缩回不遮盖所述甩胶储槽。

4.根据权利要求3所述的光刻胶回收系统，其特征在于，所述第一控制器为光感应器；

所述伸缩层为一内外径之差为10cm～15cm的环状层。

5.根据权利要求1所述的光刻胶回收系统，其特征在于，所述系统还包括：

与所述过滤装置相连接的回收处理装置，用于存储所述过滤装置过滤后的光刻胶，并将过滤后的光刻胶的粘度调整至预设值。

6.根据权利要求1所述的光刻胶回收系统，其特征在于，所述过滤装置包括：

与所述甩胶储槽相连接的过滤器，通过设置有阀门的管道与所述甩胶储槽连通，用于接收从所述甩胶储槽流出并通过所述管道流入的光刻胶，过滤掉光刻胶中的杂质；

与所述过滤器相连接的第二控制器，用于在所述过滤器中的光刻胶达到预设胶量时，控制所述阀门关闭，使所述过滤器停止接收从所述甩胶储槽流出的光刻胶；在所述过滤器中的光刻胶全部排空时，控制所述阀门导通，使所述过滤器重新开始接收从所述甩胶储槽流出的光刻胶。

7.根据权利要求6所述的光刻胶回收系统，其特征在于，所述第二控制器为重力感应器。

8.根据权利要求1所述的光刻胶回收系统，其特征在于，所述清洗装置包括：

设置在所述甩胶储槽上方的清洗剂喷嘴，用于在所述控制装置控制所述阀门关闭时，在所述控制装置的控制下喷出清洗剂对所述甩胶储槽进行清洗；

与所述甩胶储槽相连接的废液桶，用于接收清洗过程中从所述甩胶储槽流出的清洗剂废液。

9.根据权利要求1所述的光刻胶回收系统，其特征在于，所述光刻胶回收系统还包括：

风干装置，用于对清洗后的甩胶储槽进行风干。

10.根据权利要求9所述的光刻胶回收系统，其特征在于，所述风干装置包括：

安装在所述伸缩层边缘上的气刀，用于将清洗后的甩胶储槽吹干。