[发明专利]光刻胶回收系统

说明书

技术领域

本发明涉及彩膜基板和阵列基板制造领域，特别是指一种光刻胶回收系统。

背景技术

在制作彩膜基板和阵列基板的光刻工艺中，目前常用的涂胶方式一般有直接刮涂法(Slit)和刮涂后旋转匀胶(Slit+Spin)两种方式。利用Slit+Spin方式可以达到较好的膜厚均一性和表面平整度，比单独的Slit方式在表面均匀性上要优异。

图1所示为现有技术中Slit+Spin方式的旋涂光刻胶的装置结构示意图，其中基板旋转盘2位于基板底盘1中，基板卡槽4位于基板旋转盘2上，在基板旋转盘2带动基板卡槽4中的基板高速旋转的过程中，涂布在基板上的90％以上的光刻胶都在旋转过程中被高速甩出到基板底盘1和基板旋转盘2之间的甩胶储槽3中，甩胶储槽3上方设有清洗剂(Thinner)喷嘴5，清洗剂喷嘴5向甩胶储槽3喷出清洗剂，使得甩出的光刻胶混合清洗剂一起排出到废胶桶6中，光刻胶成为废弃物。

现有技术中，在甩胶完成打开基板底盘上盖后，基板旋转盘2和甩胶储槽3将暴露在空气中，光刻胶会受到空气中粒子的污染，并且在排出过程中光刻胶也会受到污染，使得光刻胶无法进行回收利用，大量排出的光刻胶不仅污染了环境，而且还造成了光刻胶的浪费，提高了生产彩膜基板和阵列基板的成本。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种光刻胶回收系统，能够对光刻工艺中甩出的光刻胶进行回收。

为解决上述技术问题，本发明的实施例提供技术方案如下：

一方面，提供一种光刻胶回收系统，包括基板底盘及其上盖、位于基板底盘上的基板旋转盘、位于基板旋转盘上用于放置基板的基板卡槽以及用于接收基板旋转盘旋转过程中从基板上甩出的光刻胶的甩胶储槽，所述基板底盘的上盖在基板旋转盘旋转过程中处于关闭状态，能够遮盖基板以及甩胶储槽，所述光刻胶回收系统还包括：

与所述甩胶储槽相连接的过滤装置，通过设置有阀门的管道与所述甩胶储槽连通，用于对从所述甩胶储槽流出并通过所述管道流入的光刻胶进行过滤；

清洗装置，用于对所述甩胶储槽进行清洗；

控制装置，用于在光刻胶回收阶段控制所述阀门导通，并控制所述清洗装置停止清洗甩胶储槽；在清洗阶段控制所述阀门关闭，并控制所述清洗装置清洗甩胶储槽。

进一步地，所述系统还包括：

设置于所述基板底盘上的保护装置，用于在所述基板底盘的上盖打开时，将甩胶储槽中的光刻胶与空气隔绝，以避免光刻胶受到空气中粒子的污染。

其中，所述保护装置包括：

设置在所述基板底盘的外边缘上的伸缩层；

设置在所述基板底盘上、控制所述伸缩层伸缩的第一控制器，用于在所述基板底盘的上盖打开时，控制所述伸缩层伸出遮盖住所述甩胶储槽；在所述基板底盘的上盖关闭时，控制所述伸缩层缩回不遮盖所述甩胶储槽。

进一步地，所述第一控制器为光感应器；

所述伸缩层为一内外径之差为10cm～15cm的环状层。

进一步地，所述系统还包括：

与所述过滤装置相连接的回收处理装置，用于存储所述过滤装置过滤后的光刻胶，并将过滤后的光刻胶的粘度调整至预设值。

其中，所述过滤装置包括：

与所述甩胶储槽相连接的过滤器，通过设置有阀门的管道与所述甩胶储槽连通，用于接收从所述甩胶储槽流出并通过所述管道流入的光刻胶，过滤掉光刻胶中的杂质；

与所述过滤器相连接的第二控制器，用于在所述过滤器中的光刻胶达到预设胶量时，控制所述阀门关闭，使所述过滤器停止接收从所述甩胶储槽流出的光刻胶；在所述过滤器中的光刻胶全部排空时，控制所述阀门导通，使所述过滤器重新开始接收从所述甩胶储槽流出的光刻胶。

进一步地，所述第二控制器为重力感应器。

其中，所述清洗装置包括：

设置在所述甩胶储槽上方的清洗剂喷嘴，用于在所述控制装置控制所述阀门关闭时，在所述控制装置的控制下喷出清洗剂对所述甩胶储槽进行清洗；

与所述甩胶储槽相连接的废液桶，用于接收清洗过程中从所述甩胶储槽流出的清洗剂废液。

进一步地，所述光刻胶回收系统还包括：

风干装置，用于对清洗后的甩胶储槽进行风干。

其中，所述风干装置包括：

安装在所述伸缩层边缘上的气刀，用于将清洗后的甩胶储槽吹干。

本发明的实施例具有以下有益效果：