[发明专利]成像光学系统、投射曝光设备、及微结构部件生产方法

权利要求书

1.成像光学系统(8)，配置为成直线系统，其部件(M1至M6；M1至M8；M1至M10)因此能够全部与同一个连续光轴(19)相关联，且该成像光学系统(8)将至少一个物平面(6；6a，6b)中的至少一个物场(4，5；4a，5a)成像到至少一个像平面(11；11，11a)中的至少一个像场(9，10；9a，10a)，

其特征在于至少两个物场(4，5；4a，5a)，该至少两个物场(4，5；4a，5a)空间上彼此分离并与类似空间上彼此分离的两个像场(9，10；9a，10a)相关联；至少两个物场之间的成像光路；和共同使用成像光学系统的至少一个光瞳平面的至少两个像场。

2.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于由至少三个部件组(20、21、22；20、21、41、43、44；45、20、21、22；35、36)构成的结构，所述部件组(20、21、22；20、21、41、43、44；45、20、21、22；35、36)的每一个能够与来自两个下面的组的类型相关联：

-场类型(20、21；20、21、43、44；35、36)，其中引导来自精确的一个物场(4，5；4a，5a)的成像光线(25)；

-孔径类型(22；41；45)，其中引导来自所有物场(4，5；4a，5a)的成像光线(25)。

3.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，部件组(20、21、22；20、21、41、43、44；45、20、21、22；35、36)中的至少一个仅包括镜(M1至M6；M1至M8；M1至M10)。

4.如权利要求2或3所述的成像光学系统，其特征在于，至少一个场部件组(20、21；20、21、43、44；35、36)具有比至少一个孔径部件组(22；41)低的数值孔径。

5.如权利要求2或3所述的成像光学系统，其特征在于精确的两个物场(4、5；4a、5a)、精确的两个像场(9、10)和至少三个部件组(20、21、22；20、21、41、43、44；45、20、21、22；35、36)，

-两个场部件组(20、21)，每一个布置在两个物场(4，5；4a，5a)之一和成像光学系统(8)的光瞳平面(23)之间，以及

-孔径部件组(22)，布置在光瞳平面(23)和两个像场(9、10)之间。

6.如权利要求5所述的成像光学系统，其特征在于，

-两个场部件组(20、21)，每一个布置在两个物场(4，5)之一和成像光学系统(8)的光瞳平面(37)之间，

-两个另外的场部件组(43、44)，布置在该光瞳平面(37)和成像光学系统(8)的另一光瞳平面(39)之间，

-孔径部件组(23)，布置在所述另一光瞳平面(39)和两个像场(9，10)之间。

7.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，成像光学系统(8)对于在第二物场(5；5a)和相关联的第二像场(10；10a)之间的光路中以及在第一物场(4；4a)和相关联的第一像场(9)之间的光路中的不同的成像光(25)的波长来配置。

8.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，两个物场(4a、5a)布置在彼此相距一距离的物平面(6a、6b)中。

9.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，两维光学感测装置(30)布置在两个物场之一(5)中并感测与该物场(5)相关联的像场(10)和所述物场(5)之间的成像光线(16)。

10.如权利要求9所述的成像光学系统，其特征在于：

-校正装置(33)，校正物场(4)和像场(9)之间的成像光路中的成像光学系统(8)的部件组(20)的成像特性，在该像场(9)中未布置所述光学感测装置(30)，

-控制装置(32)，其与光学感测装置(30)和校正装置(33)有信号连接(31、34)。

11.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于：精确的两个物场(4、5)、精确的两个像场(9，10；9，10a)和至少三个部件组(20，21，41，43，44)，布置在所述两个物场(4，5)和光瞳平面(42)之间的一个孔径部件组(41)，以及

-至少两个场部件组(43，44)的每一个布置在所述光瞳平面(42)和所述两个像场(9，10；9，10a)之一之间。