[发明专利]一种光学聚酯薄膜及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种光学聚酯薄膜及其制备方法，特别涉及具有防干涉彩虹纹的光学聚酯薄膜，该光学聚酯薄膜适用于各种LCD用光学功能薄膜以及高档IMD膜内装饰加工等高端膜材料领域。

背景技术

聚酯薄膜主要采用双向拉伸工艺制成，在生产双向拉伸聚酯薄膜时，为避免在薄膜表面产生划痕，防止收卷粘连，已知的的方法是在聚酯切片中加入微粒填料，但是，微粒填料的添加，将会影响聚酯薄膜的透明度。

光学聚酯薄膜作为平板显示的上游材料,其市场潜力巨大，在家电当中所占比例和应用范围已经越来越广泛；用于高档IMD膜内装饰加工领域的光学聚酯薄膜要求具有良好的光学性能、热稳定性、印刷性、耐冲击、耐划伤及良好的化学稳定性。对于显示器和装饰基材等用途而言，现在市场要求产品的大面积化，但随之而来的特别是对薄膜进行硬涂层加工产生的干涉彩虹纹要求越来越高，由于荧光灯为实现日光的再现性而以三波长作为主流，所以进行硬涂层加工后的光学聚酯薄膜更容易出现干涉彩虹纹，干涉彩虹纹的存在严重制约了产品的应用，在使用产品的过程中容易使人产生视觉疲劳，因此，如何有效解决干涉彩虹纹，是本领域技术人员一直关心的问题。

进行硬涂层加工后的光学聚酯薄膜产生干涉彩虹纹是由于聚酯薄膜折射率与硬涂层折射率之差而产生的，为了减小这种折射率之差以防止干涉纹的产生。日本专利JP特开平7-151902公开了一种通过硬涂层树脂中添加金属氧化物微粒来提高硬涂层折射率的方法，但其存在如下问题：聚酯薄膜的透明性、耐划伤性、防污性等因在硬涂层中添加金属氧化物微粒而降低；日本专利JP特开2002-210906中公开了通过抑制背面的反射率，层叠特定硬度的硬涂层的方法，在薄膜的硬涂层的反面设置具有特定折射率和特定厚度的涂层时，必须将背面反射率控制在0.1%以下，但以此方式控制背面反射率十分困难。

发明内容

为解决上述问题，本发明的目的是提供一种光学聚酯薄膜，通过对其表面进行改性，使其既具有高透明性、良好粘附性和易收卷性，又能够有效解决进行硬涂层加工后出现的问题干涉彩虹纹。

本发明的另一个目的是提供上述光学聚酯薄膜的制备方法。

为实现上述发明目的，本发明采取如下技术方案：

一种光学聚酯薄膜，它包括双向拉伸的聚酯基膜和涂覆在聚酯基膜至少一个表面的底涂层，改进后，所述底涂层中含有折射率为1.55～2.50的填料，形成底涂层的涂液中固体成份的含量按重量计为5%～10%。

所述底涂层中含有折射率为1.60～2.35的填料。

所述填料的平均直径为0.02μm～0.50μm。

所述填料的平均直径为0.05μm～0.20μm。

所述底涂层的厚度为0.05～0.2μm。

所述填料是氧化硅、氧化锌、硫化锌、氧化硼、氧化铝、氧化铋、氧化铟、二氧化钛、氟化钕和二氧化锆中的一种或几种。

一种光学聚酯薄膜的制备方法，它按以下步骤进行：

（1）将干燥聚酯切片熔融挤出，熔体在铸片辊上冷却成聚酯基膜厚片；

（2）在聚酯基膜厚片的至少一个表面涂覆含有折射率为1.55～2.50的填料、固体成份的含量按重量计为5%～10%的底涂层涂液；

（3）将涂覆底涂层涂液的聚酯基膜厚片纵向拉伸3.0～3.8倍；

（4）将纵向拉伸后的聚酯基膜预热后再横向拉伸3.0～4.0倍，收卷，得到光学聚酯薄膜。

与现有技术相比，本发明具有以下优点：

1.本发明的聚酯基膜中不含填料，保证了光学聚酯薄膜高透明性；

2.通过在底涂层中添加填料、控制底涂层中填料的折射率和形成底涂层的涂液中固体成份的含量，一方面使薄膜具有良好的粘附性和易收卷性，另一方面能够防止进行硬涂层加工后出现的干涉彩虹纹；

3. 通过进一步控制底涂层的厚度，一方面提高了光学聚酯薄膜与其他功能树脂层间的牢度，另一方面保证了底涂层能够发挥对干涉彩虹纹的抑制效果；

4. 本发明提供的光学聚酯薄膜适用于各种LCD用光学功能薄膜以及高档IMD膜内装饰加工等高端膜材料领域。

具体实施方式