[发明专利]一种制备光散射薄膜的方法

权利要求书

1.一种制备光散射薄膜的方法，其特征在于，其包括以下步骤：

(1)将无机纳米粉体溶解于有机溶剂中，使用物理分散方法制备成一稳定的、均匀的有机相溶胶或者将水相溶胶通过有机溶剂置换形成程一稳定的、均匀的有机相溶胶作为喷涂液；

(2)设置一生长室，于该生长室中设置一能使该生长室中为真空状态的真空系统；

(3)于生长室中设置一用于固定需要喷涂上光散射薄膜的基底材料的沉积基板，该沉积基板与基底材料处于加热状态；

(4)使用喷射系统将喷涂液朝向沉积基板喷射到生长室中，由于真空系统的作用，该生长室中为真空状态，喷射到生长室中的喷涂液瞬间体积急剧膨胀为雾状，并具有飞向所述沉积基板的初速度，在该雾状喷涂液的飞行过程中，有机溶剂急剧挥发并被大抽速的真空泵抽走，雾状喷涂液中的为纳米粒子状态的溶胶于沉积基板上形成光散射膜。

2.根据权利要求1所述的制备光散射薄膜的方法，其特征在于，其还包括以下步骤：

(5)被真空泵抽走的有机溶剂被冷阱捕获回收。

3.根据权利要求1所述的制备光散射薄膜的方法，其特征在于，所述无机纳米粉体为纳米氧化锌、二氧化锡、二氧化锆、二氧化铈、二氧化硅或三氧化二铝中的至少一种；所述水相溶胶为纳米氧化锌、二氧化锡、二氧化锆、二氧化铈、二氧化硅或三氧化二铝中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的制备光散射薄膜的方法，其特征在于，所述有机溶剂为甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、二氯甲烷、三氯甲烷、四氯化碳、乙醚、丙酮、正戊烷、异戊烷、新戊烷、正己烷及其同分异构体或正庚烷及其同分异构体中的一种。

5.根据权利要求1所述的制备光散射薄膜的方法，其特征在于，所述喷涂液的固含量为0.01～10％。

6.根据权利要求1所述的制备光散射薄膜的方法，其特征在于，所述喷射系统包括原料槽、高压液相色谱泵和喷嘴，该高压液相色谱泵的流速范围为0.01～9.99mL/min，该喷嘴的孔径尺寸为20～50μm。

7.根据权利要求1所述的制备光散射薄膜的方法，其特征在于，所述生长室是薄膜沉积单元，包括腔体、沉积基板、冷阱和水冷却系统，该腔体温度可控范围为25～500℃，该沉积基板的转速范围为0-100r/min；于喷涂过程中，该生长室中真空度由成膜压力计测量，其测量范围为0～1000Pa。

8.根据权利要求1所述的制备光散射薄膜的方法，其特征在于，所述物理分散方法为强力搅拌、超声、球磨、或剪切中。

9.根据权利要求1所述的制备光散射薄膜的方法，其特征在于，所述真空系统由三级泵系统组成，分别为旋片泵、罗茨泵和分子泵。

10.根据权利要求1所述的制备光散射薄膜的方法，其特征在于，所述基底材料为对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺、聚四氟乙烯、聚碳酸酯、聚丙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、普通玻璃、石英玻璃、掺铟氧化锡导电玻璃、掺氟氧化锡导电玻璃或聚对苯二甲酸乙二醇酯/掺铟氧化锡中的一种。