[发明专利]一种快速无损测量石墨烯薄膜厚度与能带结构的方法无效
申请号: | 201110351191.2 | 申请日: | 2011-11-09 |
公开(公告)号: | CN102507875A | 公开(公告)日: | 2012-06-20 |
发明(设计)人: | 周鹏;沈彦;孙清清;王鹏飞;张卫 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
主分类号: | G01N33/00 | 分类号: | G01N33/00;G01N21/21 |
代理公司: | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人: | 陆飞;盛志范 |
地址: | 200433 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 快速 无损 测量 石墨 薄膜 厚度 能带 结构 方法 | ||
1.一种测量石墨烯薄膜厚度与能带结构的方法,其特征在于具体步骤为:
(1)提供需要测量的超薄石墨烯薄膜;
(2)利用椭圆偏振技术得到所述石墨烯薄膜的椭偏数据;
(3)根据所述石墨烯薄膜的结构建立合适的理论模型;
(4)在所建立的理论模型基础上对所得到的椭偏数据进行分析和拟合,得到所述石墨烯薄膜的厚度与能带结构。
2.根据权利要求1所述的测量石墨烯薄膜厚度与能隙的方法,其特征在于,所述的超薄薄膜为若干层还原的氧化石墨烯薄膜。
3.根据权利要求1所述的测量石墨烯薄膜厚度与能隙的方法,其特征在于,所述的理论模型为Lorentz振子模型;用Lorentz振子模型所描述的复介电常数表示为:
式中ε∞为高频介电常数,对应为远紫外即高能量时的介电常数值,ε1为复介电常数的实部、ε2为复介电常数的虚部;Ai为振荡的权重因子,Ci为中心能量,νi为阻尼系数,E为光子能量,Ai,Ci,νi为未知量,单位都为Ev;其中权重因子Ai的值表示振子i在整个振荡体系中所占的比重;由复介电常数得到材料的复折射率:
。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于复旦大学,未经复旦大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110351191.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。