[发明专利]一种单晶硅片预清洗液及其清洗方法有效
| 申请号： | 201110349895.6 | 申请日： | 2011-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN103087850B | 公开（公告）日： | 2017-10-03 |
| 发明（设计）人： | 高华;戴丽丽;周光华;李杏兵;田怡 | 申请（专利权）人： | 协鑫集成科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/60 | 分类号： | C11D7/60;C11D7/18;C11D7/06;B08B3/12 |
| 代理公司： | 上海世贸专利代理有限责任公司31128 | 代理人： | 叶克英 |
| 地址： | 201406 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 单晶硅 清洗 及其 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种单晶硅片预清洗液的清洗方法，其特征在于：
配置清洗液：取浓度30%的双氧水4.25千克，氢氧化钠0.24千克，加入95.51千克的水中，配成100千克清洗液，混合均匀，开启制绒机的循环、鼓泡开关，5分钟后关闭鼓泡；
清洗：将插入花篮中的硅片放入到清洗液中，温度在55℃，用超声波清洗60秒，超声波清洗后，在60℃的条件下用去离子水漂洗1分钟后，去离子水漂洗后取出硅片烘干。
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