[发明专利]一种激光检测装置

说明书

技术领域

 本发明涉及真空等离子体设备技术领域，具体涉及一种应用于真空等离子体设备的激光检测装置。

背景技术

在淀积和溅射等等离子体工艺中，所用的载片台需要转动，使薄膜的厚度均匀一致。通常在腔室内底部加上一个磁性开关或接近开关，当载片台到达预定位置时，产生一个到位信号，使载片台固定在指定位置，取放芯片。传统的方法，测量和定位精度差、拆装维护不方便，在等离子工艺条件下，易产生反应物污染。

发明内容

本发明的目的在于提供一种激光检测装置，在淀积和溅射等等离子体工艺中，实现高精度、快速检测和定位。

为了达到上述目的，本发明采用的技术方案为：

一种激光检测装置，包括激光器筒体和设置在所述激光器筒体下方的激光器，所述激光器筒体下端设有透光玻璃；所述激光检测装置设置在真空室下部。

上述方案中，所述激光器筒体为圆柱筒状。

上述方案中，所述激光器筒体通过激光器支架与所述激光器连接。

上述方案中，所述激光器与真空室载片台的距离为5～5000mm。

上述方案中，所述透光玻璃厚度为1～20mm，直径为1～200mm。

上述方案中，所述透光玻璃的材料为石英或聚碳酸酯。

上述方案中，所述激光器筒体和激光器支架的材质为金属材料，所述金属材料为铝合金或不锈钢。

上述方案中，所述激光器检测移动物体精度的速度为0.01～10mm/s，所述激光器检测固定物体的检测精度0.001～10mm。

与现有技术方案相比，本发明采用的技术方案产生的有益效果如下：

本发明设置在真空室外部，实现动态检测载片台位置和移动速度，在等离子体工艺中可以保持真空腔室对真空度的要求；保持激光器结构和信号采集不会受等离子电磁场的干扰；等离子体启辉条件下，不会污染激光检测装置，同时便于操作和维护。

附图说明              

图1为本发明实施例提供的进气结构的示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明技术方案进行详细描述。

如图1所示，本发明实施例提供一种激光检测装置，安装在真空室2的下部，包括圆柱筒状的激光器筒体3和设置在激光器筒体3下方的激光器8。激光器筒体3通过激光器支架4与激光器8连接，激光器8包括发射器6和接收器7；激光器筒体3下端设有透光玻璃5，透光玻璃的材料为石英或聚碳酸酯，透光玻璃厚度为1～20mm，直径为1～200mm。激光器8与真空室载片台1的距离为5～5000mm。激光器筒体3和激光器支架4的材质为铝合金或不锈钢等金属材料。激光器8检测移动物体精度的速度为0.01～10mm/s，激光器8检测固定物体的检测精度0.001～10mm。

本发明在工作时，发射器6发射光通过透光玻璃5，到达载片台1上的被检测物体，激光被反射由接收器7接受，获得信号，接入计算机实现检测和控制。当载片台1在预定位置停止，然后取放芯片，为工艺实验做好准备。激光器8检测距离在1～5000mm范围，检测精度由激光器8和安装支架4的精度、以及测量的距离决定，为0.01～10mm。激光器支架4安装时，确保激光检测的位置在筒体的中间部分，可保证测量的清晰度和精度，以及测量的重复性。

本发明可以在真空腔室外部安装，激光器支架的安装距离可以调整，实现动态检测载片台位置和移动速度。本发明还可以保持真空腔室对真空度的要求，保持激光器结构和信号采集不会受等离子电磁场的干扰，在等离子体启辉条件下，不会污染激光检测装置。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。