[发明专利]蒸发系统和方法

权利要求书

1.一种用于将薄膜沉积到衬底上的沉积系统，所述沉积系统包括：

衬底托架，其适合于承载所述衬底；以及

至少一个倾斜的蒸发坩埚，其适合于将所述沉积材料沿着主散发方向朝着所述衬底指向，其中

所述倾斜的蒸发坩埚的所述主散发方向与垂直于所述衬底的方向不同。

2.根据权利要求1所述的沉积系统，包括至少两个蒸发坩埚，其适合于将蒸发的沉积材料沿着各个主散发方向朝着所述衬底指向，其中，所述各个主散发方向彼此不同。

3.根据权利要求1或2所述的沉积系统，其中，至少两个蒸发坩埚相对于垂直于所述衬底的平面对称地布置。

4.根据权利要求1或2所述的沉积系统，其中，提供相对于彼此以在从20mm到100mm范围内的间距布置的多个蒸发坩埚，并且该多个蒸发坩埚通常以约80mm的间距布置。

5.根据权利要求1-或2所述的沉积系统，其中，多个蒸发坩埚沿着与所述衬底的传送方向相垂直的直线布置。

6.根据权利要求1或2所述的沉积系统，其中，所述蒸发坩埚倾斜，使得所述主散发方向与所述衬底的法线形成在从-60度到+60度的范围内的角度，该角度通常在从-25度到+25度的范围内，并且更通常在从-5度到+5度的范围内。

7.根据权利要求4所述的沉积系统，其中，所述蒸发坩埚倾斜，使得所述主散发方向与所述衬底的法线形成在从-60度到+60度的范围内的角度，该角度通常在从-25度到+25度的范围内，并且更通常在从-5度到+5度的范围内。

8.根据权利要求5所述的沉积系统，其中，所述蒸发坩埚倾斜，使得所述主散发方向与所述衬底的法线形成在从-60度到+60度的范围内的角度，该角度通常在从-25度到+25度的范围内，并且更通常在从-5度到+5度的范围内。

9.根据权利要求或2所述的沉积系统，其中，所述蒸发坩埚适合于连续地倾斜。

10.根据权利要求1或2所述的沉积系统，其中，所述至少一个蒸发坩埚适合于提供具有在从1到5范围内的余弦指数的蒸气锥，该余弦指数通常在从3到4的范围中，并且更通常为约3.5。

11.根据权利要求1或2所述的沉积系统，还包括用于所述多个蒸发坩埚中的每一个的可倾斜的支撑单元，所述可倾斜的支撑单元适合于分别调整各个蒸发坩埚的主散发方向。

12.根据权利要求4所述的沉积系统，还包括用于所述多个蒸发坩埚中的每一个的可倾斜的支撑单元，所述可倾斜的支撑单元适合于分别调整各个蒸发坩埚的主散发方向。

13.根据权利要求5所述的沉积系统，还包括用于所述多个蒸发坩埚中的每一个的可倾斜的支撑单元，所述可倾斜的支撑单元适合于分别调整各个蒸发坩埚的主散发方向。

14.根据权利要求5所述的沉积系统，其中，提供偶数个蒸发坩埚，所述偶数个蒸发坩埚相对于由所述传送方向和所述衬底的法线限定的平面对称地布置。

15.一种将薄膜沉积到衬底上的方法，所述方法包括：

提供至少一个蒸发坩埚；

在所述至少一个蒸发坩埚的附近提供衬底托架；

将所述衬底装载到所述衬底托架；并且

从所述至少一个蒸发坩埚将沉积材料沿着与垂直于所述衬底的方向不同的主散发方向朝着所述衬底蒸发。

16.根据权利要求15所述的方法，其中，提供至少两个蒸发坩埚，并且其中，所述至少两个蒸发坩埚的所蒸发的沉积材料的所述主散发方向彼此不同。

17.根据权利要求15所述的方法，其中，所述主散发方向相对于所述衬底的法线倾斜达在从-45度到+45度的范围内的角度，该角度通常在从-15度到+15度的范围内，并且更通常在从-5度到+5度的范围内。

18.根据权利要求16所述的方法，其中，所述主散发方向相对于所述衬底的法线倾斜达在从-45度到+45度的范围内的角度，该角度通常在从-15度到+15度的范围内，并且更通常在从-5度到+5度的范围内。