[发明专利]一种掩膜架及光固化方法有效
申请号: | 201110340416.4 | 申请日: | 2011-10-31 |
公开(公告)号: | CN102650820A | 公开(公告)日: | 2012-08-29 |
发明(设计)人: | 何伟;赵乃维;李乃升 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64;G02F1/1339 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 掩膜架 光固化 方法 | ||
技术领域
本发明涉及液晶面板制造领域,尤其涉及一种掩膜架及光固化方法。
背景技术
在当今的TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,薄膜场效应晶体管液晶显示器)液晶面板的生产工艺中,需要将阵列基板和彩膜基板通过封框胶粘合到一起,但此时封框胶的贴合并不够牢固,还必须经过一道重要的工序,即紫外线固化,此工序是将紫外线灯发出的紫外线照射到封框胶上,使封框胶发生光反应而固化。但若是将粘合后形成的液晶面板整个暴露在紫外线下,可能会使得液晶面板中的器件,例如薄膜晶体管,受到紫外线的影响而造成其性能的下降,故通常利用掩膜板以使得紫外线只照射封框胶上。
由于封框胶的光固化工艺通常在切割工艺之前,即需要在切割工艺之前对包含多个子液晶面板的母液晶面板进行封框胶的光固化,故现有技术中使用掩膜架实现对母液晶面板中封框胶的光固化。目前设计出的掩膜架,是将多块掩膜板吸附到掩膜基板(石英)上,且多块掩膜板之间的缝隙和多个子液晶面板的封框胶相对应。
利用上述掩膜架进行光固化工艺产生以下问题:
每次更换液晶面板产品型号都需要制作新的掩膜架,该掩膜架中的掩膜板的大小都需要根据新的产品型号而重新制作。由于制作掩膜板的材料很昂贵,且重新制作掩膜架需要的工作时间长、工作量大,另外,产品型号若经常变换也会使得掩膜架因多次重新安装而更加容易产生划伤,最终影响产品质量;因此,对于现有技术而言,亟待解决因液晶面板产品型号变化而导致的原掩膜架不匹配的问题。
发明内容
本发明的实施例提供一种掩膜架及光固化方法,以解决因液晶面板产品型号变化而导致原掩膜架不匹配的问题。
为解决上述问题,本发明的实施例采用如下技术方案:
一方面,提供一种掩膜架,包括:至少一个弹性掩膜板和支撑部;其中,所述支撑部包括,掩膜区和透光区;
所述弹性掩膜板的边缘固定安装在所述支撑部上,且弹性掩膜板覆盖所述支撑部的掩膜区;
所述支撑部的掩膜区的大小根据预设尺寸调整。
一方面,提供一种光固化方法,包括:
将上述掩膜架置于紫外线灯和包含至少一个子液晶面板的母液晶面板之间;其中,每一子液晶面板的边缘涂有封框胶;
按照所述子液晶面板中封框胶的尺寸,调整掩膜架上支撑部的掩膜区大小,以使得掩膜架上的弹性掩膜板覆盖封框胶之内的区域,且不覆盖封框胶;
紫外线灯照射出的紫外线透过所述掩膜架上支撑部的透光区照射所述封框胶,使得所述封框胶固化。
本发明实施例提供的一种掩膜架及光固化方法,该掩膜架包括至少一个弹性掩膜板和支撑部;其中,支撑部包括:掩膜区和透光区;弹性掩膜板的边缘固定安装在支撑部上,且弹性掩膜板覆盖该支撑部的掩膜区;支撑部的掩膜区的大小根据预设尺寸调整。这样一来,可以根据预设尺寸调整支撑部掩膜区的大小,从而调整弹性掩膜板的大小,以使得弹性掩膜板能够覆盖液晶面板上不需要进行紫外线照射的区域;由于预设尺寸可以是根据液晶面板产品型号的不同而预先设定的尺寸,故本发明实施例提供的方案可以利用一种型号的掩膜架对不同型号的液晶面板进行掩膜,从而解决了因液晶面板产品型号变化而导致原掩膜架不匹配的问题,进而降低生产成本。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的掩膜架的俯视图;
图2为本发明实施例提供的掩膜架的局部剖视图;
图3为本发明实施例提供的光固化方法的流程图。
附图标记:
11-弹性掩模板,12-支撑部,13-固定部。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供了一种掩膜架,如图1所示,包括:
至少一个弹性掩膜板11和支撑部12;其中,支撑部12包括,掩膜区和透光区。
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
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