[发明专利]一种掩膜架及光固化方法有效
申请号: | 201110340416.4 | 申请日: | 2011-10-31 |
公开(公告)号: | CN102650820A | 公开(公告)日: | 2012-08-29 |
发明(设计)人: | 何伟;赵乃维;李乃升 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64;G02F1/1339 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 掩膜架 光固化 方法 | ||
1.一种掩膜架,其特征在于,包括:至少一个弹性掩膜板和支撑部;其中,所述支撑部包括,掩膜区和透光区;
所述弹性掩膜板的边缘固定安装在所述支撑部上,且弹性掩膜板覆盖所述支撑部的掩膜区;
所述支撑部的掩膜区的大小根据预设尺寸调整。
2.根据权利要求1所述的掩膜架,其特征在于,所述弹性掩膜板的边缘固定安装在所述支撑部上包括:
所述弹性掩膜板的边缘通过固定部固定安装在所述支撑部上。
3.根据权利要求2所述的掩膜架,其特征在于,所述固定部包括:固定卡件。
4.根据权利要求1所述的掩膜架,其特征在于,所述支撑部为横竖支撑棒结构,且所述横竖支撑棒的位置可移动;
所述弹性掩膜板的边缘固定安装在所述支撑部上具体为:所述弹性掩膜板的边缘固定安装在所述横竖支撑棒上;
所述支撑部的掩膜区的大小根据预设尺寸调整具体为:所述掩膜区的大小通过所述横竖支撑棒位置的移动调整至预设尺寸。
5.根据权利要求1-4任一项权利要求所述的掩膜架,其特征在于,还包括:控制装置及与该控制装置相连的驱动装置;
所述控制装置用于根据需要控制支撑部的掩膜区的大小;
所述驱动装置用于按照所述控制装置的要求驱动所述支撑部活动,以调整其掩膜区的大小。
6.根据权利求1-4任一项权利要求所述的掩膜架,其特征在于,所述支撑部的材料为石英。
7.根据权利求1-4任一项权利要求所述的掩膜架,其特征在于,所述弹性掩膜板为金属弹片或有机硅橡胶。
8.一种光固化方法,其特征在于,包括:
将权利要求1-7中任一项所述的掩膜架置于紫外线灯和包含至少一个子液晶面板的母液晶面板之间;其中,每一子液晶面板的边缘涂有封框胶;
按照所述子液晶面板中封框胶的尺寸,调整掩膜架上支撑部的掩膜区大小,以使得掩膜架上的弹性掩膜板覆盖封框胶之内的区域,且不覆盖封框胶;
紫外线灯照射出的紫外线透过所述掩膜架上支撑部的透光区照射所述封框胶,使得所述封框胶固化。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备