[发明专利]一种液体涂敷装置

权利要求书

1.一种液体涂敷装置，其特征在于：包括底板(1)、处理罩(2)、处理腔(4)、第三支架(5)、喷嘴(10)、驱动旋转机构(12)、承片台(17)及旋转电机(18)，其中处理罩(2)安装在底板(1)上，在处理罩(2)的侧壁上开有供晶片出入的豁口(3)；所述处理腔(4)可升降地安装在底板(1)上，豁口(3)通过处理腔(4)的升降开合，在处理腔(4)上设有驱动旋转机构(12)，该驱动旋转机构(12)的驱动端连接有可旋转的第三支架(5)，所述第三支架(5)上均布有多个可升降的喷嘴(10)，在第三支架(5)下方的处理腔(4)上开有供喷嘴(10)插入、喷射液体的第一通孔(15)；所述旋转电机(18)安装在底板(1)上，旋转电机(18)的驱动端由底板(1)穿过、位于所述处理罩(2)内，在旋转电机(18)的驱动端上安装有固定和旋转晶片的承片台(17)，该承片台(17)位于所述第一通孔(15)的下方。

2.按权利要求1所述的液体涂敷装置，其特征在于：所述处理腔(4)的上表面沿轴向向上延伸形成环状的凸起(13)，该凸起(13)内部形成凹槽(16)，凸起(13)的内壁上设有延伸部(14)，所述第一通孔(15)开设在该延伸部(14)上、且与处理腔(4)内部连通；所述驱动旋转机构(12)安装在凹槽(16)内。

3.按权利要求2所述的液体涂敷装置，其特征在于：所述处理腔(4)为中空无底的圆盘状结构，其外径小于所述处理罩(2)的内径，处理腔(4)在升降的下限位插入处理罩(2)内，闭合豁口(3)；所述凸起(13)的中心轴线与处理腔(4)的中心轴线偏心设置，第一通孔(15)位于处理腔(4)上表面的中心。

4.按权利要求2所述的液体涂敷装置，其特征在于：所述凹槽(16)的底面为处理腔(4)的上表面，在凹槽(16)的底面上开有第二通孔，该第二通孔连接有排废管。

5.按权利要求1、2或3所述的液体涂敷装置，其特征在于：所述处理腔(4)的上边缘以其中心轴线为对称设有两个支撑部(11)，每个支撑部(11)的下方均设有一个安装在底板(1)上的第一驱动升降机构(6)，该第一驱动升降机构(6)的驱动端连接有第一支架(8)，所述支撑部(11)搭接在第一支架(8)上，所述处理腔(4)通过第一驱动升降机构(6)驱动升降。

6.按权利要求5所述的液体涂敷装置，其特征在于：所述第一驱动升降机构(6)位于处理罩(2)的外围。

7.按权利要求1所述的液体涂敷装置，其特征在于：所述喷嘴(10)安装在第二支架(9)的一端，第二支架(9)的另一端连接于安装在第三支架(5)上的第二驱动升降机构(7)，喷嘴(10)通过第二驱动升降机构(7)的驱动升降。

8.按权利要求1或7所述的液体涂敷装置，其特征在于：所述第三支架(5)的底部为一圆环，圆环中间孔的上方为一中空的柱体，所述驱动旋转机构(12)的驱动端连接于所述柱体内、驱动第三支架(5)旋转；所述圆环上均布有与喷嘴(10)数量相同的第三通孔，每个第三通孔的旋转轨迹均经过所述第一通孔(15)的正上方，在每个第三通孔旁分别设有一个第二驱动升降机构(7)，安装在第二驱动升降机构(7)上的喷嘴(10)插入第三通孔内。

9.按权利要求1所述的液体涂敷装置，其特征在于：所述处理罩(2)为一中空无顶的圆盘状结构，在其侧壁上开有供晶片出入的豁口(3)。

10.按权利要求9所述的液体涂敷装置，其特征在于：所述处理罩(2)的底面及底板(1)上分别开有至少两个排废孔(19)。