[发明专利]以氢氟烷烃为抛射剂的布地奈德和福莫特罗气雾剂制剂无效
申请号: | 201110330950.7 | 申请日: | 2011-10-27 |
公开(公告)号: | CN102362860A | 公开(公告)日: | 2012-02-29 |
发明(设计)人: | 王谊文;李励;黄燕;梁文青 | 申请(专利权)人: | 江阴长风医药科技有限公司 |
主分类号: | A61K9/12 | 分类号: | A61K9/12;A61K31/58;A61K47/06;A61P11/00;A61P11/06;A61M11/04;A61K31/167 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 牛利民 |
地址: | 214125 江苏省无锡*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 烷烃 抛射 福莫特罗 气雾剂 制剂 | ||
技术领域
本发明属于药物制剂技术领域,更具体地说,涉及一种以氢氟烷烃为 抛射剂、含有布地奈德和福莫特罗的气雾剂。
背景技术
气雾剂制剂是一种通过呼吸道给药途径的制剂。呼吸道给药技术的根 本目是使药物能渗透到肺部并沉积在外围区域,具有速效、靶点给药和避 免胃肠道首过效应、副作用小、给药剂量小等优点,已得到国际公认。
对于治疗哮喘和慢性阻塞性肺疾病,及那些需要全身性快速给药的疾 病如囊性纤维变性等治疗而言,呼吸道给药途径不但有着巨大优越性,而 且是一种重要的治疗方式。但不同于一般药物的制剂,肺部吸收的药物开 发具有更大的技术挑战。比如,气雾剂药物颗粒的粒径分布,药物颗粒与 辅助剂和容器的相容性和稳定性的控制都有极高的技术难度。吸入微粒的 大小是影响气雾剂制剂疗效的关键问题之一,大多数超过5微米的吸入颗 粒将被滞留在口腔里或者卡在喷口上。因此,理想的吸入剂微粒大小平均 应小于3微米,90%应小于5微米。然而,在内聚力的作用下吸入微粒趋 向于结块,形成大的颗粒,同时微粒容易吸附在产品包装上。
因此,为克服上述难点,通常在气雾剂制剂中加入表面活性剂和共溶 剂(例如美国专利US5225183,US5439670,针对沙丁胺醇、倍氯米松等 分子)。表面活性剂可稳定气雾剂制剂中药物微粒或增容药物,也可以起 到润滑气雾剂罐和阀门功能。共溶剂常用作分散溶剂,提高表面活性剂和 抛射剂之间的溶解度。
需要指出的是,制定符合临床适用的气雾剂制剂中所含的具体成分比 例(包括药物、抛射剂、表面活性剂和共溶剂等)必须取决于整体制剂中 该特定成分的化学结构,物理特性和其彼此之间的相容性。针对特定药物 分子,通过不加或加入特定的表面活性剂和共溶剂,可以提高气溶胶制剂 中所含的具体成分(包括药物、抛射剂、表面活性剂和共溶剂等)其彼 此之间的适配性和整个气溶胶制剂的质量和稳定性。而具体处方的决定必 须通过大量实验来确定该制剂是否能达到临床应用中要求的质量标准。
发明内容
本发明人经大量的实验令人惊奇地发明了一种优质的布地奈德福莫 特罗气雾剂,成功地克服了现有技术中的一些不足。
本发明的目的是提供一种优质的布地奈德福莫特罗气雾剂。
本发明的另一个目的是提供上述布地奈德和福莫特罗气雾剂的制备 方法。
具体地说,本发明提供了一种布地奈德福莫特罗气雾剂制剂,其包含:
布地奈德和富马酸福莫特罗或其生理上可接受的盐和溶剂化物的粒 状药物;
氢氟烷烃抛射剂;
基本不含有极性高于抛射剂极性的共溶剂;
以及,任选地,含有表面活性剂。
在本发明一种实施方案中,本发明提供了一种布地奈德福莫特罗气雾 剂制剂,其包含:
布地奈德和富马酸福莫特罗或其生理上可接受的盐和溶剂化物的微 粉化粒状药物;
氢氟烷烃抛射剂;
基本不含有极性高于抛射剂极性的共溶剂;
以及表面活性剂。
在本发明一种实施方案中,本发明提供了一种布地奈德福莫特罗气雾 剂制剂,其包含:
布地奈德和富马酸福莫特罗或其生理上可接受的盐和溶剂化物的微 粉化粒状药物;
氢氟烷烃抛射剂;
基本不含有极性高于抛射剂极性的共溶剂;
不含表面活性剂。
在本发明的实施方案中,布地奈德和富马酸福莫特罗或其生理上可接 受的盐和溶剂化物的微粉化粒状药物,其中,布地奈德与富马酸福莫特罗 的重量比为50~300∶2~15,例如,300∶8.3,160∶4.5,或80∶4.5。
在本发明的实施方案中,优选地,所述粒状药物或者微粉化粒状药物 占所述气雾剂制剂的0.01-5%W/W,更优选地,为0.01-3%W/W。
在本发明的实施方案中,所述粒状药物或者微粉化粒状药物,其中, 90%W/W的所述粒状药物的直径小于5μm,50%W/W的所述粒状药物的 直径小于3μm;优选地,粒状药物由气流粉碎制得。
在本发明的实施方案中,所述氢氟烷烃抛射剂优选地为1,1,1,2- 四氟乙烷或1,1,1,2,3,3,3-七氟正丙烷或其混合物。
在本发明的实施方案中,所述氢氟烷烃抛射剂的含量为制剂的 93.5%-99.9%w/w。
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