[发明专利]喷墨记录介质有效
申请号: | 201110314730.5 | 申请日: | 2011-10-17 |
公开(公告)号: | CN102529478A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 田栗亮;加茂久男;仁藤康弘;野口哲朗;小栗勲;苏秀儿;八田直也 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | B41M5/52 | 分类号: | B41M5/52 |
代理公司: | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人: | 魏启学 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷墨 记录 介质 | ||
1.一种喷墨记录介质,其包括支持体和设置在所述支持体上并由至少上层和下层的两层以上的层组成的墨接收层,
其中所述由两层以上的层组成的墨接收层以基于所述由两层以上的层组成的墨接收层的总质量为12.7质量%以上的量包含聚乙烯醇,
其中所述上层为在所述由两层以上的层组成的墨接收层中距离所述支持体最远的层,其包含颜料和聚乙烯醇,并且层厚度为3.0μm以上至10.0μm以下,所述颜料包含90质量%以上的水合氧化铝,和
其中所述下层为在所述上层正下方的层,其包含颜料和聚乙烯醇,并且所述下层的层厚度为所述上层的层厚度的2.5倍以上至10倍以下和平均孔半径为所述上层的平均孔半径的0.90倍以上至1.30倍以下,所述颜料包含20质量%以上的二氧化硅。
2.根据权利要求1所述的喷墨记录介质,其中在所述上层中所述聚乙烯醇的含量为5.0质量%以上至10.0质量%以下,和在所述下层中所述聚乙烯醇的含量为13.0质量%以上至20.0质量%以下。
3.根据权利要求1所述的喷墨记录介质,其中所述上层包含交联剂。
4.根据权利要求1所述的喷墨记录介质,其中所述下层的平均孔半径为所述上层的平均孔半径的1.01倍以上至1.26倍以下。
5.根据权利要求1所述的喷墨记录介质,其中所述下层以基于所述下层中包含的所述颜料的总质量为50质量%以上的量包含所述二氧化硅。
6.根据权利要求1所述的喷墨记录介质,其中在所述上层中所述聚乙烯醇的含量为5.0质量%以上至10.0质量%以下,在所述下层中所述聚乙烯醇的含量为13.0质量%以上至20.0质量%以下,其中所述上层包含交联剂,其中所述下层的平均孔半径为所述上层的平均孔半径的1.01倍以上至1.26倍以下,和其中所述下层以基于所述下层中包含的所述颜料的总质量为50质量%以上的量包含所述二氧化硅。
7.根据权利要求1所述的喷墨记录介质,其中所述下层以基于所述下层中包含的所述颜料的总质量为70质量%以上的量包含所述二氧化硅。
8.根据权利要求1所述的喷墨记录介质,其中所述上层的层厚度为5.0μm以上至8.0μm以下。
9.根据权利要求1所述的喷墨记录介质,其中所述下层的层厚度为所述上层的层厚度的2.5倍以上至8.0倍以下。
10.根据权利要求1所述的喷墨记录介质,其中所述上层以相对于所述上层中的所述聚乙烯醇为0.2当量以上至1.0当量以下的量包含交联剂。
11.根据权利要求6所述的喷墨记录介质,其中所述下层以基于所述下层中包含的所述颜料的总质量为70质量%以上的量包含所述二氧化硅,其中所述上层的层厚度为5.0μm以上至8.0μm以下,其中所述下层的层厚度为所述上层的层厚度的2.5倍以上至8.0倍以下,和其中所述上层以相对于所述上层中的所述聚乙烯醇为0.2当量以上至1.0当量以下的量包含所述交联剂。
12.根据权利要求1所述的喷墨记录介质,其中所述上层和下层二者均包含具有1-4个碳原子的烷基磺酸。
13.根据权利要求1所述的喷墨记录介质,其中所述上层的平均孔半径为8.00nm以上至11.30nm以下。
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