[发明专利]利用低压强制Cassie态效应改变微孔膜润湿性的方法有效
申请号: | 201110301876.6 | 申请日: | 2011-10-09 |
公开(公告)号: | CN102366712A | 公开(公告)日: | 2012-03-07 |
发明(设计)人: | 奉若涛;乌学东;陈建敏;薛群基 | 申请(专利权)人: | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
主分类号: | B01D67/00 | 分类号: | B01D67/00 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 陈英俊 |
地址: | 315201 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 低压 强制 cassie 效应 改变 微孔 润湿 方法 | ||
1.一种利用低压强制Cassie态效应改变微孔膜润湿性的方法,其特征是:在室温下,利用100~300Pa的相对压力诱导孔径为10~100μm的微孔膜上液滴由Wenzel态向Cassie态转变,改变微孔膜界面润湿特性。
2.根据权利要求1所述的利用低压强制Cassie态效应改变微孔膜润湿性的方法,其特征是:所述的微孔膜为尼龙微孔膜、聚砜微孔膜或微孔醋酸纤维素膜。
3.根据权利要求1或2所述的利用低压强制Cassie态效应改变微孔膜润湿性的方法,其特征是:所述的微孔膜经过表面改性方法进行表面修饰,使微孔膜表面的自由能降低、液滴接触角增大,然后在室温下,利用100~300Pa的相对压力诱导微孔膜上液滴由Wenzel态向Cassie态转变,改变微孔膜界面润湿特性。
4.根据权利要求3所述的利用低压强制Cassie态效应改变微孔膜润湿性的方法,其特征是:所述的表面修饰方法是CF4等离子体处理、含氟低表面能物质表面自组装或溶胶凝胶法。
5.根据权利要求4所述的利用低压强制Cassie态效应改变微孔膜润湿性的方法,其特征是:所述的CF4等离子体处理过程为:首先,将微孔膜固定在等离体处理仪的真空室中,采用CF4作为工作气体,调节真空室工作压力为10~50Pa,功率20~100W,处理时间1~30min。
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