[发明专利]一种晶圆基片加工方法无效
申请号: | 201110297982.1 | 申请日: | 2011-09-30 |
公开(公告)号: | CN103029031A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 姚建明 | 申请(专利权)人: | 上海双明光学科技有限公司 |
主分类号: | B24B37/02 | 分类号: | B24B37/02;H01L21/02 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 宣慧兰 |
地址: | 201506 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 晶圆基片 加工 方法 | ||
1.一种晶圆基片加工方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
1)在毛坯片上开设定位槽;
2)采用超薄石英玻璃加工工艺对毛坯片进行研磨加工;
3)对研磨后的毛坯片进行抛光处理。
2.根据权利要求1所述的一种晶圆基片加工方法,其特征在于,所述的超薄石英玻璃加工工艺为具体包括以下步骤:
A)毛坯片通过定位槽固定在研磨装置上;
B)在待加工的毛坯片周围设置多个保护片;
C)研磨装置从上方对毛坯片进行研磨。
3.根据权利要求2所述的一种晶圆基片加工方法,其特征在于,所述的保护片设有3个,均匀设置在毛坯片周围。
4.根据权利要求2所述的一种晶圆基片加工方法,其特征在于,所述的保护片的高度高于毛坯片0.15~0.3mm。
5.根据权利要求2所述的一种晶圆基片加工方法,其特征在于,研磨装置从上方对毛坯片进行研磨时,进刀量为0.01mm。
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