[发明专利]一种晶圆基片加工方法无效

专利信息
申请号: 201110297982.1 申请日: 2011-09-30
公开(公告)号: CN103029031A 公开(公告)日: 2013-04-10
发明(设计)人: 姚建明 申请(专利权)人: 上海双明光学科技有限公司
主分类号: B24B37/02 分类号: B24B37/02;H01L21/02
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 宣慧兰
地址: 201506 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 晶圆基片 加工 方法
【权利要求书】:

1.一种晶圆基片加工方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:

1)在毛坯片上开设定位槽;

2)采用超薄石英玻璃加工工艺对毛坯片进行研磨加工;

3)对研磨后的毛坯片进行抛光处理。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆基片加工方法,其特征在于,所述的超薄石英玻璃加工工艺为具体包括以下步骤:

A)毛坯片通过定位槽固定在研磨装置上;

B)在待加工的毛坯片周围设置多个保护片;

C)研磨装置从上方对毛坯片进行研磨。

3.根据权利要求2所述的一种晶圆基片加工方法,其特征在于,所述的保护片设有3个,均匀设置在毛坯片周围。

4.根据权利要求2所述的一种晶圆基片加工方法,其特征在于,所述的保护片的高度高于毛坯片0.15~0.3mm。

5.根据权利要求2所述的一种晶圆基片加工方法,其特征在于,研磨装置从上方对毛坯片进行研磨时,进刀量为0.01mm。

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