[发明专利]荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法

说明书

技术领域

本发明涉及用于对试样表面进行荧光X射线分析等的荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法。

背景技术

荧光X射线分析是使用X射线源出射的X射线照射试样，试样放出的特征X射线(荧光X射线)由X射线检测器检测出来，从其能量中得到谱线，从而对试样进行定性分析或定量分析的方法。由于荧光X射线分析不破坏试样且能够迅速分析，所以广泛应用于工程/质量管理等。近年来，实现了荧光X射线分析的高精度化/高灵敏度化，从而微量测定变为可能，进而特别期待其作为对材料或复合电子部件等中含有的有害物质进行检测的分析手法而普及。

然而，现有的荧光X射线分析中，为使试样和X射线源的距离(z方向的高度)为一定，需要边光学观察试样边手动对准焦点(高度调整)，所以作业效率低下。此处，公开了一种使X射线源与光学系统同轴，利用光学系统自动进行对试样的焦点对准的技术(专利文献1)。

而且，现有的荧光X射线分析中，需要边光学观察装置内的试样边在x-y方向使之移动而位置对准X射线照射位置，会导致作业效率下降。此处，公开了一种用靠近X射线源的激光器发出的激光照射试样，能以激光斑点肉眼观察X射线照射位置，从而容易进行位置对准(专利文献2)。

专利文献1：日本特开平10-274518号公报(图1的符号39)

专利文献2：日本特开2006-329944号公报(图1的符号9)

发明内容

但是，假设使用专利文献2记载的技术时，存在的问题是若在光学观察试样时照射激光，则变为辉点会妨碍观察或使作业人员的眼睛疲劳。而且，此时手动关闭激光的作业繁杂，导致作业效率下降。

另一方面，利用自动焦点装置调整试样到X射线源的距离的情况下，产生由于焦点深度的关系而使调整范围狭小(10mm量级)的问题。

本发明为解决上述课题构思而成，其目的是提供作业效率优异且能够安全地进行试样测定的荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法。

为达成上述目的，本发明的荧光X射线分析装置，其特征在于，包括：放射线源，对试样上的照射点照射放射线；X射线检测器，检测所述试样放出的特征X射线和散射X射线，且输出含有该特征X射线和散射X射线的能量信息的信号；分析器，分析所述信号；试样台，放置所述试样；移动机构，能够将所述试样台上的所述试样相对于所述放射线源和所述X射线检测器移动；壳体，至少收容所述放射线源、所述试样台以及所述移动机构；门，开关用于所述试样进出所述壳体内外的开口；高度测定机构，能够测定所述试样上的所述照射点的高度；移动机构控制部，基于测定的所述照射点的高度使所述移动机构工作，调整所述试样到所述放射线源及所述X射线检测器的距离；激光部，以可见光激光照射所述照射点；门开关探测部，探测所述门的开关状态；激光部工作控制部，当利用所述门开关探测部探测到所述门为开状态时，使所述激光部工作以照射所述可见光激光，且当利用所述门开关探测部探测到所述门为关状态时，停止所述激光部；以及高度测定机构工作控制部，当利用所述门开关探测部探测到所述门为开状态时，使所述高度测定机构工作以测定所述照射点的高度。

这样，在开门且壳体内的试样台放置有试样时，照射可见光激光，所以照射点成为激光斑点而能用肉眼确认，容易进行试样的定位。然后，在进行试样的定位后，停止可见光激光的照射，所以在定位后观察试样时，可见光激光的辉点不会进入作业人员的眼中，不会妨碍观察或使作业人员的眼睛疲劳。

所述激光部也可兼用作所述高度测定机构。

这样，如果利用照射的激光测定照射点的高度，则在照射用于决定位置的激光斑点的同时能够取得高度信息，从而不需要手动调整试样到X射线源的距离，提高作业效率。而且，由于以1个激光部进行激光斑点的照射和高度信息的测定即可，所以装置紧凑且简易的同时，扩大试样到X射线源的距离的调整范围。

所述激光部工作控制部，也可在利用所述门开关探测部探测到所述门为关状态时，且探测到所述移动机构工作时，使所述激光部工作以利用所述可见光激光测定所述照射点的高度；并且当探测到所述移动机构的工作停止时，停止所述激光部。

依据该构成，试样在X、Y、Z至少任一方向上移动时，重新调整试样到放射线源和X射线检测器的距离，因此，例如像有凹凸的试样那样，试样移动而仅仅稍许改变照射点引起上述距离或焦点变动的情况下，也能自动调整距离或焦点，能够精度良好地进行X射线分析。